[发明专利]一种制备高硅铝合金涂层的方法

权利要求书

1.一种制备高硅铝合金涂层的方法，其特征在于，包括：

步骤1、对基体进行预处理；

步骤2、将高硅铝合金粉末送入喷枪中，在气体保护下采用超音速等离子喷涂工艺进行喷涂；

其中，所述高硅铝合金粉末粒度为10～70μm，喷涂距离为70～120mm，工作电流为300～400A，工作电压为100～170V，工作功率为30～68kW，送粉量为5～50g/min，氩气流量为90～300L/min，氢气流量为2～40L/min，涂层厚度为10～2000μm。

2.根据权利要求1所述的制备高硅铝合金涂层的方法，其特征在于，所述高硅铝合金粉末为Al-25Si-4Cu-1Mg合金粉、Al-20Si合金粉、Al-25Si合金粉或Al-30Si合金粉。

3.根据权利要求2所述的制备高硅铝合金涂层的方法，其特征在于，所述Al-25Si-4Cu-1Mg粉末采用雾化法制备。

4.根据权利要求3所述的制备高硅铝合金涂层的方法，其特征在于，所述步骤2中气体保护包括主气体保护和次级气体保护。

5.根据权利要求4所述的制备高硅铝合金涂层的方法，其特征在于，所述主气体为氩气，次级气体为氢气。

6.根据权利要求5所述的制备高硅铝合金涂层的方法，其特征在于，所述高硅铝合金粉末的喷涂速度为：

其中，λ为校正系数，w为送粉量，r高硅铝合金粉末的粉末粒径，U为工作电压，I为工作电流，Q_Ar为氩气流量，Q_He为氢气流量，L为高硅铝合金粉末与喷嘴间的距离，h为喷涂距离，η为阻力系数，α为喷涂扇面的圆心角，R为喷涂扇面半径，ρ为高硅铝合金粉末密度，δ为涂层厚度。

7.一种制备高硅铝合金涂层的方法，其特征在于，包括：

步骤1、对基体进行净化、粗化预处理；

步骤2、将Al-25Si-4Cu-1Mg合金粉末送入喷枪中，以氩气为主气，以氢气为次级气，采用超音速等离子喷涂工艺进行喷涂，其中，Al-25Si-4Cu-1Mg合金粉末粒度15～45μm，喷涂距离为100mm，工作电流位330A，工作电压为121V，工作功率为40kW，送粉量为20g/min，氩气流量为120L/min，氢气流量为10.8L/min，涂层厚度为10～2000μm。