[发明专利]基板处理装置及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201810648979.1 申请日: 2018-06-22
公开(公告)号: CN109216229B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 大泽瑞树;戎居博志 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇;宋晓宝
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,

具有:

基板保持单元,用于保持基板;

共用配管,与用于向被所述基板保持单元保持的基板的主面喷出处理液的喷出口连通;

连接部,与所述共用配管连接,在内部具有用于液体流通的流通空间;

药液供给配管,与所述连接部连接,向所述连接部供给药液;

排出配管,与所述连接部连接,供从所述连接部排出的液体流通;以及

清洗液供给配管,与所述连接部连接,向所述连接部供给清洗液,

所述连接部具有沿着所述流通空间的流通方向排列的多个口,所述多个口连接有包括所述共用配管、所述药液供给配管、所述清洗液供给配管和所述排出配管的多个配管,

所述多个口中的与所述共用配管的一端连接的共用口在所述流通方向上配置在排出口与清洗液供给口之间,所述排出口是所述多个口中的与所述排出配管连接的口,所述清洗液供给口是所述多个口中的与所述清洗液供给配管连接的口。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,

所述排出口在所述流通方向上最靠一端侧配置,

所述清洗液供给口在所述流通方向上最靠另一端侧配置。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其中,

所述共用口在所述连接部中设置在如下位置:所述流通空间中的所述共用口与所述排出口之间的区域的容积比所述流通空间中的所述共用口与所述清洗液供给口之间的区域的容积小。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中,

所述共用口在所述连接部中设置在如下位置:所述共用口与所述排出口之间的距离比所述共用口与所述清洗液供给口之间的距离小。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其中,

所述喷出口设置为在沿着被所述基板保持单元保持的基板的主面的方向上不能移动。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置,其中,

所述基板处理装置还具有相对构件,所述相对构件具有基板相对面,该基板相对面与被所述基板保持单元保持的基板的主面相对,并且在沿着该基板的主面的方向上不能移动,

所述喷出口形成于所述基板相对面。

7.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其中,

所述连接部连接有多个所述药液供给配管,

所述多个药液供给配管向所述连接部供给相互不同的多种药液。

8.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其中,

所述连接部连接有多个所述清洗液供给配管,

所述多个清洗液供给配管向所述连接部供给相互不同的多种清洗液。

9.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其中,

所述清洗液是水。

10.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其中,

所述清洗液是与所述药液的种类不同的药液。

11.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其中,

具有:

共用阀,用于开闭所述共用配管;

药液供给阀,用于开闭所述药液供给配管;

排出阀,用于开闭所述排出配管;

清洗液供给阀,用于开闭所述清洗液供给配管;以及

控制装置,用于控制所述共用阀、所述药液供给阀、所述排出阀和所述清洗液供给阀的开闭,

所述控制装置执行如下工序:

药液喷出工序,通过一边使所述排出阀和所述清洗液供给阀关闭,一边使所述共用阀和所述药液供给阀打开,将来自所述药液供给配管的药液经由所述连接部和所述共用配管向所述喷出口供给,并从该喷出口向基板喷出;以及

第一清洗工序,在所述药液喷出工序后,通过一边使所述共用阀和所述药液供给阀关闭,一边使所述排出阀和所述清洗液供给阀打开,从所述清洗液供给配管向所述连接部供给清洗液,并且将所述清洗液通过所述排出配管排出。

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