[发明专利]一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测方法有效
申请号: | 201810649402.2 | 申请日: | 2018-06-22 |
公开(公告)号: | CN108828901B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 李艳秋;李恩泽 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 李微微;仇蕾安 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 全视场 成像模型 展开系数 傅里叶变换 高数值孔径 成像系统 偏振像差 在线检测 二阶 掩模 远场 成像 矩阵 光刻投影物镜 在线检测技术 超定方程组 成像结果 逆向求解 偏振照明 频谱结构 频谱信息 曝光区域 投影物镜 成像光 傅里叶 离焦量 离散化 掩模版 推导 光瞳 视场 衍射 光源 解析 灵敏 两边 | ||
1.一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤一、设计成像系统的标记掩模,所述标记掩膜为满足离散化傅里叶远场频谱结构的标记掩模;
步骤二、针对成像系统的成像模型的投影物镜部分,采用琼斯光瞳的pesudo-zernike展开法表征投影物镜部分的偏振像差;然后将步骤一设计的标记掩模衍射远场再代入到成像模型中,得到离散化的成像模型;
步骤三、根据步骤二得到的成像模型,获得成像光强与偏振像差展开系数的二阶灵敏矩阵sij,由此将成像模型化简为关于偏振像差的二次型方程:
其中ki和kj为偏振像差展开系数;jmax表示展开阶数;上角标*表示复共轭转置;
对所述二次型方程等式两边做傅里叶变换,并同时提取其+1阶频谱信息,得到空间像+1阶谱与偏振像差展开系数的二次解析关系方程:
其中,表示光强;上角标H表示转置复共轭;a、b、a'和b'表示偏振像差展开系数;当为X偏振照明时,ki和kj分别对应a和b;当为Y偏振照明时,ki和kj分别对应a'和b';和分别表示X偏振照明时和Y偏振照明下从傅里叶变换后的二阶灵敏矩阵sij中提取出的+1阶谱灵敏度矩阵;
步骤四,所述成像系统分别采用X偏振光源和Y偏振光源照明,获得光强信息;不断变化所述步骤一设计的标记掩模的周期和/或角度,测量得到多组光强信息,然后代入到步骤三建立的二次解析关系方程中,求解得到偏振像差展开系数,进而得到偏振像差。
2.根据权利要求1所述一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测方法,其特征在于,所述步骤四中,采用非参数核回归法求解偏振像差展开系数。
3.根据权利要求1所述一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测方法,其特征在于,所述标记掩模为一维密集线条二元标记掩模、相移标记掩模、衰减标记掩模或者正弦型标记掩模。
4.根据权利要求1所述一种全视场高数值孔径成像系统偏振像差在线检测方法,其特征在于,所述步骤四中,将步骤一设计的标记掩膜改变周期和/或摆放角度后,分布在一个掩膜板上;成像系统对各个标记掩膜成像后,得到多组光强信息。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810649402.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。