[发明专利]一种人造石研磨光亮剂及其制备方法和应用方法

说明书

本发明提出了一种人造石研磨光亮剂，该研磨光亮剂包括如下重量百分比的组分：纳米级磨料10‑25％，无机盐5‑15％，可乳化蜡类物质5‑15％，表面活性剂乳化物3‑10％，助溶剂5‑15％，以及余量的水；此外，本发明还提出了上述光亮剂的制方法和应用方法。本发明的人造石研磨光亮剂结合抛光磨块进行研磨抛光，在整个研磨抛光过程中，通过机械的物理摩擦磨削与化学反应同时进行，另外纳米级磨料与磨屑可惨透入人造石的孔隙中，实现填补修整的效果，因此本发明的人造石研磨光亮剂及打磨方式更容易达到高光的镜面效果，从而提高人造石的外观质量与档次。

技术领域

本发明涉及一种人造石研磨光亮剂及其制备方法和应用方法。

背景技术

人造石通常是指人造石实体面材、人造石石英石、人造石岗石等。主要是由不饱和树脂、环氧酚醛树脂与石英石、氧化铝等填充料组成的复合材料。通常采用混料固化再切割加工的方式成型。人造石固结成型及切割成板后，表面一般都比较粗糙。要使人造石作为家具台桌或建筑装璜等产品，必须经过打磨抛光，才能达到平整洁净光滑等表面效果。现有的人造石抛光大致可以分为4类，1是毛毡草酸法，2是毛毡氧化铝法，3是不织布磨块抛光法，4是树脂磨块法等。

现时的抛光工艺相对比较简单，打磨效果比较粗糙，虽然对一般的人造石也可进行打磨抛光，光泽一般在67-70度左右，高的也可达到75度，很难没有达到更高的镜面精光效果的需求。

发明内容

本发明针对现有技术中不能满足人造石镜光高精度的抛光要求，提出一种人造石研磨光亮剂及其制备方法和应用方法，配合市面现有的抛光磨块干法研磨，可使人造石的光泽达到85度以上，实现超亮镜面效果。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案予以实现：

一种人造石研磨光亮剂，包括如下重量百分比的组分：

纳米级磨料10-25％，无机盐5-15％，可乳化蜡类物质5-15％，表面活性剂乳化物3-10％，助溶剂5-15％，以及余量的水。

进一步地，所述的纳米级磨料选自氧化铝、白刚玉、氧化锌、石英、二氧化硅、氧化锆、高岭土中的2-3种的混合物。

进一步地，所述的无机盐选自硫酸铝、硅酸钠、乙二胺四乙酸四钠、硅酸钾、焦磷酸钠、偏磷酸钠、氟化钠中的2-3种的混合物。

进一步地，所述的可乳化蜡类物质选自硬脂酸、十六醇、月桂酸、石蜡、硅油、有机硅树脂中的2-3种的混合物。

进一步地，所述的表面活性剂选自NP-3(壬基酚聚氧乙烯谜)、NP-9(烷基酚聚氧乙烯(9)醚)、吐温20(聚氧乙烯(20)山梨醇酐单月桂酸酯)、司盘80(失水山梨糖醇脂肪酸酯)、聚乙二醇、磺酸钠中的2-3种的混合物。

进一步地，所述的助溶剂选自乙二醇、三乙醇胺、二乙醇胺、丙二醇、丙三醇、乙二醇甲醚、乙二醇叔丁醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚中的2-3种的混合物。

进一步地，所述纳米级磨料的粒径大小为1-150纳米。

上述的人造石研磨光亮剂的制备方法，包括如下步骤：

在分散缸中依次加入水、助溶剂，启动搅拌，搅拌速度为500-800转/分钟，加入表面活性剂乳化物，分散均匀，再加入可乳化蜡类物质、无机盐，再慢慢加入纳米级磨料，3000-3500转/分钟高速分散均匀，再用研磨机研磨20分钟至无粗粒。

上述的人造石研磨光亮剂的应用方法，包括如下步骤：

用不织布磨块，转速800转/分，石材表面滴加研磨光亮剂60克/分钟，研磨5分钟，最后滴加清水研磨，100克/分，研磨0.5分钟，光度可由35度达到85-87度。