[发明专利]一种量子点彩膜背光结构有效
申请号: | 201810657412.0 | 申请日: | 2018-06-25 |
公开(公告)号: | CN108873470B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 徐胜;郭太良;陈恩果;叶芸;缪煌辉;黄佳敏;雷霄霄;谢洪兴 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊;陈章霖 |
地址: | 350301 福建省福州市福清市西环北*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 量子 点彩膜 背光 结构 | ||
1.一种量子点彩膜背光结构,其特征在于,包括由下至上依次设置的反射片、导光板、下水氧阻隔扩散膜、量子点彩膜、上水氧阻隔透镜膜、下偏振片、液晶膜和上偏振片,所述下水氧阻隔扩散膜内布设有散射粒子,所述量子点彩膜包括多个与红/绿/蓝色子像素相匹配的子黑矩阵拼接组成的黑矩阵结构,与红色子像素匹配的子黑矩阵内填充有含红色量子点的浆料,与绿色子像素匹配的子黑矩阵内填充有含绿色量子点的浆料,与蓝色子像素匹配的子黑矩阵内无填充,所述上水氧阻隔透镜膜的上表面呈与子像素相匹配的透镜微结构;所述透镜微结构为通过卷对卷压印制作而成的凸透镜或棱镜,每一个凸透镜或棱镜的设置位置跟与对应子像素相匹配的子黑矩阵的设置位置保持一致。
2.根据权利要求1所述的一种量子点彩膜背光结构,其特征在于,所述量子点彩膜的制作方法包括以下步骤:
1)在下水氧阻隔扩散膜上表面通过光刻或印刷的工艺制作黑矩阵结构;
2)根据实际出光要求,将设定用量比例的红/绿量子点溶于甲苯、氯苯、正己烷、正辛烷中一种或多种溶剂当中得到对应浆料,通过打印或印刷的工艺将红/绿色量子点的浆料分别转移至对应子像素的子黑矩阵位置当中,对应蓝色子像素的子黑矩阵位置空着;
3)将上水氧阻隔透镜膜压至量子点彩膜上方。
3.根据权利要求1所述的一种量子点彩膜背光结构,其特征在于,所述上水氧阻隔透镜膜的材料为PS、改性PS、AS、PMMA、PC、双烯丙基二甘醇碳酸酯聚合物、二烯丙基邻苯二甲酸酯、双烯聚苯醚砜、苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸羟乙酯或二甲基丙烯酸乙二醇酯。
4.根据权利要求1所述的一种量子点彩膜背光结构,其特征在于,所述下水氧阻隔扩散膜中的散射粒子为聚苯乙烯、聚甲丙烯酸甲酯、硅化物、丙烯酸中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的一种量子点彩膜背光结构,其特征在于,所述下水氧阻隔扩散膜的下表面通过表面压印的方式制作出用于提高光线扩散能力的不规则结构。
6.根据权利要求1所述的一种量子点彩膜背光结构,其特征在于,凸透镜的基底厚度为15um-50um,曲率半径为7×10-5 m-10×10-5m。
7.根据权利要求1所述的一种量子点彩膜背光结构,其特征在于,棱镜的基底厚度为15um-50um,棱镜的截面呈等腰三角形,棱镜的顶角角度为10度-90度。
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