[发明专利]一种透明柔性可拉伸的电磁屏蔽薄膜及其制备方法

权利要求书

1.可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，其包括透明柔性可拉伸衬底层；孔洞网格状金属屏蔽层以及透明柔性可拉伸封装层；

所述孔洞网格状金属屏蔽层在透明柔性可拉伸衬底层与透明柔性可拉伸封装层之间；

所述孔洞网格状金属屏蔽层通过以下方法制备：

ⅰ)在透明柔性可拉伸衬底上紧密排列单层胶体颗粒；

ⅱ)将紧密排列单层胶体颗粒刻蚀为非紧密排列状；

ⅲ)在非紧密排列单层胶体颗粒的透明柔性可拉伸衬底上沉积纳米金属层；

ⅳ)去除胶体颗粒。

2.根据权利要求1所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述孔洞网格状金属屏蔽层通过沉积方法将金、银、铜、镍、铝、铁、碳中的一种或多种磁屏蔽材料沉积在透明柔性可拉伸衬底层中而制成。

3.根据权利要求1或2所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述孔洞网格状金属屏蔽层通过以下方法制备：

ⅰ)在透明柔性可拉伸衬底上紧密排列单层胶体颗粒

通过自组装方法在透明柔性可拉伸衬底层上沉积紧密排列的单层胶体颗粒；

ⅱ)将紧密排列单层胶体颗粒刻蚀为非紧密排列状

通过刻蚀方法将紧密排列单层胶体颗粒刻蚀为非紧密排列状；

ⅲ)在非紧密排列单层胶体颗粒的透明柔性可拉伸衬底上沉积纳米金属层

通过物理气相沉积、化学气相沉积方法将金、银、铜、镍、铝、铁、碳磁屏蔽材料溅射在将非紧密排列的单层胶体颗粒及透明柔性可拉伸衬底上；

ⅳ)去除胶体颗粒

采用溶剂溶解、刻蚀方法去除胶体颗粒，便得到沉积在透明柔性可拉伸衬底层上的网格状金属屏蔽层。

4.根据权利要求1-2任一项所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述透明柔性可拉伸衬底层或透明柔性可拉伸封装层为硅胶、热塑性聚氨酯、聚烯烃弹性体透明弹性体中的一种或多种材料制成。

5.根据权利要求4所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述的硅胶选自聚二甲基硅氧烷、聚二甲基二苯基硅氧烷、聚乙烯基三异丙氧基硅烷、聚甲基乙烯基硅氧烷、聚甲基氢硅氧烷中的一种或多种。

6.根据权利要求1-2任一项所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述透明柔性可拉伸衬底层与透明柔性可拉伸封装层采用的材料为相同材料。

7.根据权利要求6所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述透明柔性可拉伸衬底层与透明柔性可拉伸封装层采用的材料为相互融合，无明显界面。

8.根据权利要求1所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述胶体颗粒选自10nm-100μm。

9.根据权利要求8所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述胶体颗粒选自100nm-50μm。

10.根据权利要求1所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，胶体颗粒选自聚苯乙烯微球、二氧化硅微球、聚甲基丙烯酸甲酯微球、聚丙烯酸微球、聚酚醛树脂微球、聚脲醛树脂微球、聚甲基丙烯酸环氧丙酯微球。

11.根据权利要求1-2任一项所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，所述孔洞网格状金属屏蔽层为金、银、铜、镍、铝、铁、碳中的一种或多种磁屏蔽材料制成，呈孔洞网格状。

12.根据权利要求1-2任一项所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，孔洞网格状金属屏蔽层的网格线宽度最低值为10nm-100μm；网格状金属屏蔽层的网格线空隙最高值为100nm-100μm。

13.根据权利要求12所述的可拉伸柔性透明电磁屏蔽膜，孔洞网格状金属屏蔽层的网格线宽度最低值为100nm-10μm；网格状金属屏蔽层的网格线空隙最高值为500nm-50μm。