[发明专利]一种柔性衬底复合结构及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201810662971.0 申请日: 2018-06-25
公开(公告)号: CN108832020A 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 王双龙;杨佳丽;郑燕琼;凌志天;陈旻彧;赵艺;魏斌 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/00;H01L51/56
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 刘奇
地址: 201900*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 复合结构 衬底 聚合物基板 阻隔膜 层叠设置 防水特性 光电器件 光电效率 柔性器件 散热性能 石墨烯层 石墨烯膜 水氧阻隔 温度梯度 综合性能 石墨烯 结温 疏水 制备 应用
【权利要求书】:

1.一种柔性衬底复合结构,依次包括层叠设置的聚合物基板、阻隔膜和石墨烯膜。

2.根据权利要求1所述的柔性衬底复合结构,其特征在于,所述阻隔膜为PMMA薄膜或PDMS薄膜。

3.根据权利要求1所述的柔性衬底复合结构,其特征在于,所述聚合物基板的外表面还设置有电极层。

4.根据权利要求1所述的柔性衬底复合结构,其特征在于,所述阻隔膜与石墨烯膜的总厚度为20~100μm。

5.根据权利要求1~4任一项所述的柔性衬底复合结构,其特征在于,所述聚合物基板的材质包括PEN、PET、PI、改性PEN、改性PET和改性PI中的任意一种。

6.权利要求1所述的柔性衬底复合结构的制备方法,包括以下步骤:

(1)在金属基底上沉积石墨烯膜,得到金属基底-石墨烯膜结构;

(2)将所述步骤(1)得到的金属基底-石墨烯膜结构中的石墨烯膜结构转移至涂覆有阻隔膜的聚合物基板的阻隔膜表面,得到柔性衬底复合结构。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中沉积的方法为化学气相沉积法。

8.权利要求1~4任一项所述的柔性衬底复合结构在制备OLED器件中的应用。

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