[发明专利]一种甲砜霉素的合成方法在审
申请号: | 201810678508.5 | 申请日: | 2018-06-27 |
公开(公告)号: | CN110642763A | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 王存亮;许灵艳;严学文;黄焕军;王小桥 | 申请(专利权)人: | 严学文 |
主分类号: | C07C315/04 | 分类号: | C07C315/04;C07C317/32 |
代理公司: | 42109 黄石市三益专利商标事务所 | 代理人: | 饶卓识 |
地址: | 435400 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 甲砜霉素 对甲砜基苯丝氨酸乙酯 硼氢化钠还原 工艺操作 硼氢化钾 起始原料 盐酸水解 氯乙腈 有机酸 环合 合成 | ||
【权利要求书】:
1.一种甲砜霉素的合成方法,其特征在于:以D-对甲砜基苯丝氨酸乙酯为起始原料,用硼氢化钾或硼氢化钠还原,加入冰乙酸调节pH值在4~9的环境下与二氯乙腈环合,盐酸水解得到甲砜霉素。
2.根据权利要求1所述的一种甲砜霉素的合成方法,其特征是:所述D-对甲砜基苯丝氨酸乙酯:硼氢化钾或硼氢化钠:二氯乙腈重量比=1:0.1~0.5:0.1~0.5。
3.根据权利要求1所述的一种甲砜霉素的合成方法,其特征是:所述还原反应温度20~55℃;成环反应温度20~80℃,水解温度60~90℃。
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