[发明专利]注入器及其包含注入器的工艺装置

权利要求书

1.一种注入器，其特征在于，包括：

注入腔体，所述注入腔体顶部具有第一开口，所述第一开口用于向注入腔体内输入第一气体，所述注入腔体包括垂直于注入腔体内侧壁的参考面；

位于注入腔体内的导流装置，所述导流装置与注入腔体之间具有气体通道，所述气体通道用于通过第一气体，所述导流装置包括第一区和位于第一区底部的第二区，所述导流装置第一区在参考面上具有第一投影，所述导流装置第二区在参考面上具有第二投影，所述第一投影落在第二投影内；

位于所述注入腔体底部的第二开口，所述第二开口用于输出第一气体。

2.如权利要求1所述的注入器，其特征在于，所述第二投影的形状包括三角形、长方形、正方形、正六边形、正八边形、圆形或者椭圆形。

3.如权利要求1所述的注入器，其特征在于，所述第一投影的形状包括：圆形、长方形、椭圆型、正六边形、正八边形或者正方形。

4.如权利要求1所述的注入器，其特征在于，所述第二开口的内侧壁向注入腔体底部的外侧壁凹陷。

5.如权利要求1所述的注入器，其特征在于，还包括：连接部，所述导流装置通过连接部与注入腔体相连。

6.如权利要求5所述的刻蚀装置，其特征在于，所述连接部的个数为一个或者一个以上；当所述连接部的个数为一个以上时，一个以上的所述连接部围绕导流装置进行排列。

7.一种工艺装置，其特征在于，包括：

如权利要求1至权利要求6任一项所述的注入器；

位于所述注入器底部的工艺腔室，所述工艺腔室顶部与第二开口连通，所述第二开口用于向所述工艺腔室内输入第一气体。

8.如权利要求7所述的包含注入器的工艺腔室，其特征在于，所述工艺腔室底部还包括支撑结构，所述支撑结构用于支撑待处理基底，所述第一气体用于处理所述待处理基底。

9.如权利要求7所述的包含注入器的工艺腔室，其特征在于，所述工艺腔室用于进行刻蚀处理。

10.如权利要求7所述的包含注入器的工艺腔室，其特征在于，所述第一气体在所述工艺腔内经过工艺处理之后生成第三气体；所述工艺腔室底部还具有第三开口，所述第三开口用于排出所述第三气体。