[发明专利]一种平面工件喷涂轨迹生成方法、系统及计算机存储介质有效
申请号: | 201810681018.0 | 申请日: | 2018-06-27 |
公开(公告)号: | CN108921808B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 肖曦;王伟华 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G06T5/30 | 分类号: | G06T5/30 |
代理公司: | 北京中创云知识产权代理事务所(普通合伙) 11837 | 代理人: | 肖佳 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 平面 工件 喷涂 轨迹 生成 方法 系统 计算机 存储 介质 | ||
1.一种平面工件喷涂轨迹的生成方法,其特征在于,包括如下步骤:
图像输入:输入经过二值化处理的待喷涂平面工件图像;
图像预处理:提取所述图像的工件外轮廓,并填充工件外轮廓内部的像素点,得到经过预处理的图像;
有效喷涂轨迹提取:对所述经过预处理的图像进行腐蚀、膨胀、运算处理,得到有效喷涂轨迹;
判断剩余图像的有效面积:如果有效面积大于一预定阈值,则返回上一步继续进行有效喷涂轨迹提取;如果有效面积小于该预定阈值,则进行下一步;
输出得到的所有的有效喷涂轨迹。
2.根据权利要求1所述的平面工件喷涂轨迹的生成方法,其特征在于,所述图像预处理步骤中填充工件外轮廓内部的像素点包括:将外轮廓内部所有像素点的值设置为1,使得外轮廓内的所有像素点变为白色。
3.根据权利要求1所述的平面工件喷涂轨迹的生成方法,其特征在于,所述有效喷涂轨迹提取包括如下步骤:
对所述经过预处理的图像进行腐蚀处理,得到腐蚀后的图像;
将经过预处理的图像和腐蚀后的图像作差运算以得到腐蚀带;
对所述腐蚀带进行腐蚀带细化,并填充腐蚀带细化后的封闭区域,得到填充图像;
对所述填充图像进行先腐蚀后膨胀的处理,得到平滑图像;
对所述平滑图像提取图像外轮廓L;
将所述腐蚀带与输入的待喷涂平面工件图像相交,得到有效的腐蚀带;
对有效的腐蚀带进行膨胀处理,得到膨胀的有效腐蚀带;
将膨胀的有效腐蚀带与所述图像外轮廓L相交,得到有效喷涂轨迹。
4.根据权利要求3所述的平面工件喷涂轨迹的生成方法,其特征在于,所述腐蚀处理包括如下步骤:
用结构元素扫描图像的每一个像素;
所述结构元素与其覆盖的图像对应位置的像素值做“与”操作;
如果全为1,腐蚀后的图像中该像素的像素值为1,否则为0。
5.根据权利要求4所述的平面工件喷涂轨迹的生成方法,其特征在于,所述结构元素由形状参数和控制形状参数的大小方向的参数决定,为一个二维矩阵,矩阵元素的值为0或1。
6.根据权利要求3所述的平面工件喷涂轨迹的生成方法,其特征在于,对所述腐蚀带进行腐蚀带细化的步骤包括:
将腐蚀带中宽度大于1个像素的线条细化成1个像素。
7.根据权利要求3所述的平面工件喷涂轨迹的生成方法,其特征在于,填充腐蚀带细化后的封闭区域的步骤包括:
将细化后的腐蚀带内部所有像素点的值置为1。
8.根据权利要求3所述的平面工件喷涂轨迹的生成方法,其特征在于,所述膨胀处理包括如下步骤:
用结构元素扫描图像的每一个像素;
所述结构元素与其覆盖的图像对应位置的像素值做“与”操作;
如果全为0,膨胀后的图像中该像素的像素值为0,否则为1。
9.一种平面工件喷涂轨迹的生成系统,其特征在于,该系统包括:
存储器以及一个或多个处理器;
其中,所述存储器与所述一个或多个处理器通信连接,所述存储器中存储有可被所述一个或多个处理器执行的指令,所述指令被所述一个或多个处理器执行,以使所述一个或多个处理器用于执行权利要求1-8任一项所述的方法。
10.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机可执行指令,当所述计算机可执行指令被计算装置执行时,可操作来执行权利要求1-8任一项所述的方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810681018.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。