[发明专利]一种用于检测贴壁细胞浓度的微流控芯片及其制备方法有效
申请号: | 201810681034.X | 申请日: | 2018-06-27 |
公开(公告)号: | CN108918369B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 菅傲群;李慧明;段倩倩;张益霞;桑胜波;张文栋 | 申请(专利权)人: | 太原理工大学 |
主分类号: | G01N15/06 | 分类号: | G01N15/06 |
代理公司: | 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙) 14109 | 代理人: | 崔雪花;冷锦超 |
地址: | 030024 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 检测 细胞 浓度 微流控 芯片 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于检测贴壁细胞浓度的微流控芯片,其特征在于,所述的微流控芯片(5)包括输入单元(501)、准直单元(502)、聚焦单元(503)和耦合单元(504);
所述的输入单元(501)由多个平行的沟槽单元组成,所述的沟槽单元由沟槽结构和插入沟槽结构内的多模光纤组成;所述的准直单元(502)由与沟槽单元数量相同且位置一一对应的多个准直透镜组成;所述的沟槽单元与准直透镜在一条水平线上;所述的聚焦单元(503)由排列成凸透镜状的待测贴壁细胞溶液构成,用于聚焦从准直透镜出射的平行光;所述的耦合单元(504)由一个沟槽单元组成,所述的输入单元(501)、准直单元(502)、聚焦单元(503)和耦合单元(504)依次排列。
2.根据权利要求1所述的一种用于检测贴壁细胞浓度的微流控芯片,其特征在于,所述的沟槽结构由硅片上刻蚀的沟槽和在PDMS上倒模形成的沟槽键合而成;所述的准直透镜为倒模在PDMS 上形成的准直透镜。
3.根据权利要求2所述的一种用于检测贴壁细胞浓度的微流控芯片,其特征在于,所述的硅片上刻蚀的沟槽是采用干法刻蚀形成的,所述的倒模在 PDMS 上的沟槽是在PDMS 上采用光刻工艺形成的。
4.根据权利要求2或3所述的一种用于检测贴壁细胞浓度的微流控芯片,其特征在于,所述的硅片上刻蚀的沟槽和倒模在 PDMS 上形成的沟槽相键合形成中空的筒状结构。
5.根据权利要求1所述的一种用于检测贴壁细胞浓度的微流控芯片,其特征在于,所述的聚焦单元(503)包括两个相平行的聚焦单元(503)。
6.一种用于制备如权利要求1所述的检测贴壁细胞浓度的微流控芯片的方法,其特征在于,包括分别制备输入单元(501)、准直单元(502)、聚焦单元(503)和耦合单元(504);
其中,输入单元(501)和耦合单元(504)中的沟槽结构由硅片上刻蚀的沟槽和倒模在PDMS 上的沟槽键合而成;
硅片上的刻蚀沟槽采用干法刻蚀工艺完成,包括以下步骤:
1)选取硅片作为材料,并对硅片进行清洗、烘干、HDMS增粘处理;
2)在硅片上旋涂光刻胶作为保护层,然后将刻有沟槽结构图案的掩膜板置于硅片上;
3)对固定好的硅片进行紫外曝光;
4)曝光结束后,对硅片上的光刻胶进行显影操作;
5)对硅片进行干法刻蚀处理,清洗形成微流控芯片所需的硅片结构;
倒模在PDMS 上的沟槽采用标准光刻工艺完成,包括以下步骤:
1)选取硅片作为材料,并对硅片进行清洗、烘干;
2)在硅片上旋涂光刻胶,然后将刻沟槽图案的掩膜板置于硅片上固定;
3)对固定好的硅片进行曝光;
4)曝光结束后,对硅片上的光刻胶进行显影;
5)将液体状的 PDMS 浇筑到经过显影后的硅片上,进行倒模;
所述的准直单元(502)的准直透镜采用上述标准光刻工艺倒模在PDMS 上;
将待测贴壁细胞溶液静置于底面为凸透镜形状的模具,贴壁细胞均匀贴附在模具底面,形成凸透镜形状,之后移除模具,形成以贴壁细胞构成的聚焦单元(503);
将尺寸相同的多模光纤插入沟槽结构中形成沟槽单元,将多个沟槽单元平行固定形成输入单元(501),在每个沟槽单元所在的水平位置对应设置一个倒模在PDMS上的准直透镜,多个直透镜形成准直单元(502),在准直单元(502)之后设置聚焦单元(503),聚焦单元(503)之后固定由一个沟槽单元构成的耦合单元(504)。
7.根据权利要求6所述的一种用于制备检测贴壁细胞浓度微流控芯片的方法,其特征在于,用氧等离子清洗机分别处理硅片结构和倒模后的 PDMS 表面改变亲水性。
8.根据权利要求6所述的一种用于制备检测贴壁细胞浓度微流控芯片的方法,其特征在于,在键合机作用下进行对准键合形成沟槽结构。
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