[发明专利]一种测量激光强度的方法

权利要求书

1.一种测量激光强度的方法，其特征在于，包括：

利用相对相位变化的正交双色激光场作用于原子，获取所述原子的第一二维光电子动量谱，所述正交双色激光场包括偏振沿平行方向的第一激光脉冲和偏振沿垂直方向的第二激光脉冲，所述第一激光脉冲的强度大于所述第二激光脉冲的强度；

用所述第一激光脉冲作用于所述原子，获取所述原子的第二二维光电子动量谱；

分析所述第一二维光电子动量谱及所述第二二维光电子动量谱，得到在正交双色激光场下的光电子全息干涉结构相对于在所述第一激光脉冲下的单色激光场光电子全息干涉结构的变化幅值；

找到所述幅值的极小值对应的激光偏振方向动量，通过与激光强度对幅值极小值位置的依赖关系作对比，得到激光强度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分析所述第一二维光电子动量谱及所述第二二维光电子动量谱，得到在正交双色激光场下的光电子全息干涉结构相对于在所述第一激光脉冲下的单色激光场光电子全息干涉结构的变化幅值，包括：

根据所述第一二维光电子动量谱得到正交双色激光场下的第一光电子全息干涉结构，根据所述第二二维光电子动量谱得到单色激光场下的第二光电子全息干涉结构；

分别在所述第一光电子全息干涉结构及所述第二光电子全息干涉结构中平行于激光偏振方向的目标动量范围内均匀取点，对每一个取值获得其对应的垂直于激光偏振方向的动量分布；

随相对相位的变化，基于垂直于激光偏振方向的动量分布得到所述第一光电子全息干涉结构中干涉一级极小条纹的中心位置相对于所述第二光电子全息干涉结构中干涉一级极小条纹中心位置的变化幅值。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，从所述第二光电子全息干涉结构中提取的干涉项为：从所述第一光电子全息干涉结构中提取的干涉项为：Δφ₁＝1/2(p_y-k_y)²(t_r-t_i)+α，其中，p_y为垂直激光偏振方向动量，α为分子的散射振幅相位，t_r和t_i分别为散射光电子的散射时间和电离时间，k_y是散射电子的正则动量。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第二光电子全息干涉结构中干涉一级极小条纹中心位置为：所述第一光电子全息干涉结构中干涉一级极小条纹的中心位置为：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一光电子全息干涉结构中干涉一级极小条纹的中心位置相对于所述第二光电子全息干涉结构中干涉一级极小条纹中心位置的变化幅值为：