[发明专利]SERS单元及其制备方法与应用在审
| 申请号： | 201810682379.7 | 申请日： | 2018-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN108844943A | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | 郭清华;孙海龙 | 申请（专利权）人： | 苏州天际创新纳米技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王锋 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米粒子 凹陷部 聚集体 基材 制备 浸渍 高均匀性 离散分布 芯片应用 制备工艺 分散液 再利用 重现性 自组装 应用 | ||
1.一种SERS单元，其特征在于包括：
基材，其表面具有离散分布的多个纳米凹陷部；
多个纳米粒子聚集体，每一纳米粒子聚集体由多个纳米粒子聚集形成，且每一纳米粒子聚集体分别被一对应的纳米凹陷部所限制。
2.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：相邻两个所述纳米凹陷部之间的距离不超过100nm，优选不超过50nm，更优选为10nm～30nm。
3.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：所述纳米凹陷部的深度为30nm～150nm。
4.根据权利要求1或3所述的SERS单元，其特征在于：所述纳米凹陷部的口部直径为50nm～1000nm，优选为100nm～300nm。
5.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：所述纳米粒子聚集体含有的纳米粒子数为2～10个，优选为3～6个，平均纳米粒子数优选为3～6个。
6.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：所述纳米粒子的粒径为15～120nm，优选为30～60nm。
7.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：构成所述纳米粒子的材料包括金、银、铜、铂或铝中的任意一种或两种以上的合金。
8.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：所述的纳米粒子聚集体通过纳米粒子自组装形成。
9.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：所述的纳米粒子聚集体中的纳米粒子紧密排列或紧密堆积，所述纳米粒子聚集体中相邻纳米粒子之间的间隙为1～2nm。
10.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：所述纳米粒子聚集体中，所述纳米粒子单层排列或多层排列。
11.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：至少两个所述纳米粒子聚集体的尺寸和/或形状不同。
12.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：所述纳米粒子聚集体包括位于所述纳米凹陷部的开口面以下的第一部分和位于所述纳米凹陷部的开口面以上的第二部分，所述第一部分的体积大于所述第二部分的体积。
13.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：每平方厘米的所述基材表面具有108～1010个所述的纳米凹陷部。
14.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：构成所述基材的材料包括无机材料、有机材料或者无机/有机复合材料。
15.根据权利要求1所述的SERS单元，其特征在于：所述基材表面的纳米凹陷部的制作方法包括光刻法、等离子刻蚀法、纳米压印法、电化学刻蚀法或者化学刻蚀法。
16.一种SERS芯片，其特征在于包括：一个或者多个如权利要求1-15中任一项所述的SERS单元。
17.一种SERS检测系统，其特征在于包括：拉曼光谱仪和权利要求16所述的SERS芯片。
18.权利要求1-15中任一项权利要求所述的SERS单元在物质的痕量分析或生物分子的检测中的应用。
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