[发明专利]MRAM存储器单元、阵列及存储器有效

专利信息
申请号: 201810687747.7 申请日: 2018-06-28
公开(公告)号: CN110660435B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 何世坤;竹敏;韩谷昌 申请(专利权)人: 中电海康集团有限公司;浙江驰拓科技有限公司
主分类号: G11C16/06 分类号: G11C16/06;G11C16/08;G11C16/24
代理公司: 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 代理人: 赵永刚
地址: 311121 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: mram 存储器 单元 阵列
【说明书】:

发明提供一种MRAM存储器单元、阵列及存储器,存储器单元包括:两个垂直堆叠的磁隧道结、选择器元件以及晶体管,其中,两个所述磁隧道结之间布置有隔离层,每个所述磁隧道结的参考层靠近所述隔离层布置,每个所述磁隧道结的自由层外侧各布置有一条自旋轨道矩提供线,所述选择器元件的两端通过金属连接层连接至两条所述自旋轨道矩提供线,所述晶体管的漏极与任意一条所述自旋轨道矩提供线的靠近所述选择器元件的一端连接;两条所述自旋轨道矩提供线的靠近所述磁隧道结的一端各自引出一个用于连接位线的端点,所述晶体管的栅极引出一个用于连接字线的端点,所述晶体管的源极引出一个用于连接源线的端点。本发明能够提高存储器的存储密度。

技术领域

本发明涉及磁存储器技术领域,尤其涉及一种MRAM存储器单元、阵列及存储器。

背景技术

传统磁存储器(Magnetic Random Access Memory,简称MRAM)的存储单元的核心部分是磁隧道结MTJ,MTJ是一个由多层膜组成的两端口结构器件,其核心部分主要由三层薄膜组成,两个铁磁层被一个隧穿势垒层分隔开,其中一个铁磁层的磁化方向是固定不变的,被称为固定层或者参考层,另一个铁磁层的磁化方向可以改变,被称为自由层,自由层的磁化方向可以与参考层的磁化方向平行(Parallel,简称P)或者与参考层的磁化方向反平行(Anti-Parallel,简称AP)。当两个铁磁层的磁化方向平行时,MTJ呈现低阻态,反之,当两个铁磁层的磁化方向反平行时,MTJ呈现高阻态。这两种截然不同的电阻状态在信息存储的时候可以分别用来表征二进制数据“0”和“1”。

在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下技术问题:

现有的MRAM存储器,只能存储“0”和“1”两种状态,存储密度低。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供一种MRAM存储器单元、阵列及存储器,能够提高存储器的存储密度。

第一方面,本发明提供一种MRAM存储器单元,包括两个垂直堆叠的磁隧道结、选择器元件以及晶体管,其中,

两个所述磁隧道结之间布置有隔离层,每个所述磁隧道结的参考层靠近所述隔离层布置,每个所述磁隧道结的自由层外侧各布置有一条自旋轨道矩提供线,所述选择器元件的两端通过金属连接层连接至两条所述自旋轨道矩提供线,所述晶体管的漏极与任意一条所述自旋轨道矩提供线的靠近所述选择器元件的一端连接;

两条所述自旋轨道矩提供线的靠近所述磁隧道结的一端各自引出一个端点,用于连接位线;

所述晶体管的栅极引出一个端点,用于连接字线;

所述晶体管的源极引出一个端点,用于连接源线。

可选地,两个所述磁隧道结为面内磁化MTJ或者面外垂直磁化MTJ。

可选地,当两个所述磁隧道结为面内磁化MTJ时,两个所述磁隧道结之间的隔离层包括一层非磁性隔离层;当两个所述磁隧道结为面外垂直磁化MTJ时,两个所述磁隧道结之间的隔离层包括两层非磁性隔离层,分别靠近两个所述磁隧道结的参考层,两层所述非磁性隔离层之间还包括一层面内磁化的磁性层,所述面内磁化的磁性层的磁化方向与电流方向平行或反平行。

可选地,所述自旋轨道矩提供线的长度大于所靠近的磁隧道结的特征长度。

可选地,所述自旋轨道矩提供线的材料为重金属、拓扑绝缘体BiSe合金或者反铁磁合金。

可选地,所述选择器元件具有双向导通功能,导通阈值电压低于MTJ写入电压,同时高于MTJ读取电压。

可选地,所述选择器元件为基于硅材料的二极管或者二极管组合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中电海康集团有限公司;浙江驰拓科技有限公司,未经中电海康集团有限公司;浙江驰拓科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810687747.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top