[发明专利]一种改善反光杯性能的镀膜工艺在审
| 申请号： | 201810693357.0 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN108796502A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 邹达伟;熊大章 | 申请（专利权）人： | 中山市达尔科光学有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C16/50;C23C14/20;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人： | 邹常友 |
| 地址： | 528400 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜工艺 离子电流 反光杯 轰击 化学气相沉积 二甲基硅油 蒸镀 膜层稳定性 氩气 工件表面 保护膜 抽真空 镀铝膜 高光效 加工炉 纯铝 底膜 体腔 用料 清洗 | ||
1.一种改善反光杯性能的镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、将工件置于加工炉体腔内，抽真空后充入氩气并通过离子电流轰击对工件表面进行清洗；
步骤二、通过化学气相沉积法在离子电流轰击的条件下为工件镀二甲基硅油底膜；
步骤三、通过蒸镀的方式为工件镀铝膜，采用纯度为99.99％的纯铝在1100～1200℃的高温下为工件蒸镀；
步骤四、通过化学气相沉积法在离子电流轰击的条件下为工件镀二甲基硅油保护膜。
2.根据权利要求1所述的改善反光杯性能的镀膜工艺，其特征在于，所述的步骤一的清洗操作，氩气的体积流量控制在200sccm，采用中频电量为2.5A的离子电流，清洗时间为180s，工件的转动频率为10Hz。
3.根据权利要求1所述的改善反光杯性能的镀膜工艺，其特征在于，所述的步骤二的镀二甲基硅油底膜操作，二甲基硅油的体积流量控制在150sccm，采用中频电量为1.6A的离子电流，镀膜时间控制在180s，工件的转动频率为10Hz。
4.根据权利要求1所述的改善反光杯性能的镀膜工艺，其特征在于，所述的步骤三的镀铝膜操作，其中蒸镀过程分为三段进行，第一段纯铝蒸发的上升时间为8.0s，维持时间为26s，第二段纯铝蒸发的上升时间为8.0s，维持时间为23s，第二段纯铝蒸发的上升时间为6.0s，维持时间为13s，蒸镀过程工件的转动频率为12Hz。
5.根据权利要求1所述的改善反光杯性能的镀膜工艺，其特征在于，所述的步骤四的镀二甲基硅油保护膜操作，二甲基硅油的体积流量控制在560sccm，采用中频电量为1.8A的离子电流，镀膜时间控制在220s，工件旋转震动频率为10Hz。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的改善反光杯性能的镀膜工艺，其特征在于，所述二甲基硅油的粘度为0.65cSt。
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