[发明专利]化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，其包括：

腔体，所述腔体的顶部设置有进气装置，所述腔体的底部设置有出气装置；

其中，所述进气装置包括一端伸入所述腔体的第一进气管和第二进气管，且在靠近所述第一进气管的一端端部的侧壁上设置有第一出气口，在靠近所述第二进气管的一端端部的侧壁上设置有第二出气口，所述第一进气管的另一端与所述第二进气管的另一端均用于与气源连接；

支撑环，所述支撑环的外侧壁与所述腔体的内壁连接，将所述腔体分割成中部连通的上腔体和下腔体；

扰流体，所述扰流体的一端设置在所述支撑环上，并沿所述支撑环到腔体顶部的方向设置，所述扰流体的数量大于等于三个；

支撑部件，所述支撑部件设置在所述腔体的底部，用于支撑待沉积涂层的样品，并使样品位于所述下腔体中。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述腔体的顶部设置有用于安装所述第一进气管的第一安装孔，所述第一进气管垂直穿过所述第一安装孔伸入所述腔体中；

所述腔体的顶部设置有用于安装所述第二进气管的第二安装孔，所述第二进气管垂直穿过所述第二安装孔伸入所述腔体中；

其中，所述第一安装孔和第二安装孔采用偏心设计，分别设置在以所述腔体顶部中心为圆心的两个圆周上，且两个圆周直径相差50-100mm。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述第一出气口的出口方向与所述第一安装孔中心和第二安装孔中心所在的直线呈80-100度夹角，所述第二出气口的出口方向与所述第一安装孔中心和第二安装孔中心所在的直线呈80-100度夹角，且所述第一出气口和所述第二出气口呈顺时针或逆时针的方式布置并出口方向相互平行。

4.根据权利要求3所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述第一出气口为长条孔，所述第一出气口的长边沿所述第一进气管的长度方向设置；

所述第二出气口为长条孔，所述第二出气口的长边沿所述第二进气管的长度方向设置。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述出气装置为带有排气孔的底板，所述排气孔的数量为多个，多个所述排气孔以所述底板的中心为圆心采用圆形阵列的方式分布在所述底板上；

其中，相邻两个所述排气孔之间的距离为4-8mm，所述排气孔的直径为6-16mm，所述排气孔的最大阵列直径尺寸为所述腔体内径尺寸的40-60％。

6.根据权利要求1所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述支撑环的内径等于所述腔体内径的60-80％。

7.根据权利要求1所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述扰流体包括为第一长条形板体和第二长条形板体；

所述第一长条形板体的一长侧边与所述第二长条形板体的一长侧边连接，且所述第一长条形板体和所述第二长条形板体之间的夹角为120-160度；

所述第一长条形板体的另一长侧边与所述腔体的内壁连接，所述第二长条形板体的另一长侧边与所述腔体的内壁连接。

8.根据权利要求7所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述第一长条形板体的宽度等于所述第二长条形板体的宽度的60-80％。

9.根据权利要求7所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述扰流体的另一端与所述腔体顶部连接；

或，所述扰流体的长度等于所述上腔体高度的60-80％。

10.根据权利要求1所述的化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置，其特征在于，

所述支撑部件包括多个支撑杆，所述支撑杆的一端与所述腔体的底部连接，所述支撑杆的另一端为锥形尖端用于支撑所述样品；

其中，多个所述支撑杆以所述腔体的底部中心为轴心均布在所述腔体的底部。