[发明专利]衬底升降机构和包含衬底升降机构的反应器

权利要求书

1.一种反应器，包括共同衬底处理和转移区，所述反应器包括：

反应室，其包括反应区；

基座，其具有在所述反应区内的顶部表面；以及

衬底升降机构，其包括：

至少一个升降销；

升降销支撑构件，其以可拆卸方式接合到所述至少一个销；以及

可移动轴，其连接到所述升降销支撑构件，

其中所述衬底升降机构使所述至少一个升降销延伸通过所述基座的宽度且高于所述表面。

2.根据权利要求1所述的反应器，其中所述可移动轴在衬底转移过程期间横移约5mm到约25mm的距离。

3.根据权利要求1所述的反应器，其中所述至少一个升降销的长度范围从约20mm到约40mm。

4.根据权利要求1所述的反应器，其中所述至少一个升降销包括顶部表面，且其中所述衬底升降机构使所述顶部表面从所述顶部表面下方延伸到高于所述顶部表面多达约22mm的距离处。

5.根据权利要求1所述的反应器，其中所述基座包括中心区和外围区，且其中所述中心区的宽度大于所述外围区的宽度。

6.根据权利要求5所述的反应器，其中所述外围区的所述宽度范围从约3mm到约6.5mm。

7.根据权利要求5所述的反应器，其中所述中心区的所述宽度范围从约6mm到约10mm。

8.根据权利要求5所述的反应器，其中所述反应器另外包括具有端的至少一个热电偶，所述热电偶延伸通过所述可移动轴，且所述端收纳于所述中心区中的开口内。

9.根据权利要求1所述的反应器，其中所述基座包括涂布有碳化硅的石墨。

10.根据权利要求1所述的反应器，另外包括：

可旋转轴；以及

基座支撑件，其连接到所述可旋转轴，

其中所述基座连接到所述基座支撑件，使得所述可旋转轴的旋转移动被转移到所述基座。

11.根据权利要求10所述的反应器，其中所述基座支撑件包括一个或多个基座支撑臂和一个或多个基座支撑结构。

12.根据权利要求11所述的反应器，其中所述一个或多个基座支撑结构连接到所述基座。

13.根据权利要求11所述的反应器，其中所述一个或多个基座支撑臂包括开孔以收纳所述至少一个升降销。

14.一种衬底支撑组合件，包括：

基座；

基座支撑件，其连接到所述基座；

可旋转轴，其连接到所述基座支撑件；

升降销支撑构件；

一个或多个升降销，其连接到所述升降销支撑构件；

可移动轴，其连接到所述升降销支撑构件；

升降销机构，用以使所述可移动轴在衬底转移过程期间在竖直方向上移动；以及

基座旋转机构，其使所述基座在衬底处理期间旋转，

其中所述基座在衬底转移期间不在竖直方向上移动。

15.根据权利要求14所述的衬底支撑组合件，其中所述基座支撑件包括多个基座支撑臂和一个或多个基座支撑结构，所述一个或多个基座支撑结构连接到所述多个支撑臂中的每一个或与其整合。

16.根据权利要求14所述的衬底支撑组合件，其中所述多个基座支撑臂中的至少一个包括开孔以收纳升降销。

17.根据权利要求14所述的衬底支撑组合件，其中所述基座包括中心区和外围区，且其中所述中心区的宽度大于所述外围区的宽度。