[发明专利]带喷水抑制外围、高位喷流噪声功能的发射系统有效

专利信息
申请号: 201810697636.4 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN108871060B 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 陈劲松;曾玲芳;吴新跃;张国栋;张筱;王南;平仕良;吴梦强;贾永涛;杜小坤 申请(专利权)人: 北京航天发射技术研究所;中国运载火箭技术研究院
主分类号: F41F3/04 分类号: F41F3/04
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 张辉
地址: 100076 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 喷水 抑制 外围 高位 喷流 噪声 功能 发射 系统
【权利要求书】:

1.带喷水抑制外围、高位喷流噪声功能的发射系统,其特征在于:包括一级外围喷水降噪系统和二级高位喷水降噪系统;所述一级外围喷水降噪系统能够从发射平台台体(1)周向侧壁向外围喷水,抑制经发射平台台体(1)导流槽下泻反溅的高声强喷流噪声;所述二级高位喷水降噪系统设置在发射平台台体(1)外围,为高位喷水模式,能够从外侧向导流槽出口喷水,形成二级外围喷水水幕,抑制导流槽出口反射的高声强喷流噪声;同时所述二级高位喷水降噪系统还能够向发射平台台体(1)中心区喷水,形成二级内部喷水水幕;

二级高位喷水降噪系统包括主水管(12)、上水管(11)、二级蓄水器(6)、二级内侧喷嘴阵列(7)和二级外侧喷嘴阵列(8);

来自外部供水管路的水流由主水管(12)进入,依次经过上水管(11)、和二级蓄水器(6)后,由二级内侧喷嘴阵列(7)和二级外侧喷嘴阵列(8)喷出;

二级内侧喷嘴阵列(7)向发射平台台体(1)中心区喷水,形成二级内部喷水水幕;二级外侧喷嘴阵列(8)向导流槽出口喷水,形成二级外围喷水水幕;

所述二级内侧喷嘴阵列(7)和二级外侧喷嘴阵列(8)中的喷嘴一起设计,结构型式为连通式双侧喷嘴、T字型双侧喷嘴或者交错式双排双侧喷嘴;

所述二级内侧喷嘴阵列(7)和二级外侧喷嘴阵列(8)距离发射平台台体上表面3-15m。

2.根据权利要求1所述的带喷水抑制外围、高位喷流噪声功能的发射系统,其特征在于:发射平台台体(1)四周边框为中空结构,该中空结构与外部供水管路连通,形成内置式喷水管道(15),发射平台台体(1)四周侧壁上加工有一级外围喷嘴阵列(4),一级外围喷嘴阵列(4)中的喷嘴与内置式喷水管道(15)相连通,构成一级外围喷水降噪系统。

3.根据权利要求1所述的带喷水抑制外围、高位喷流噪声功能的发射系统,其特征在于:在发射平台台体(1)四周侧壁上外挂喷水管道,喷水管道与外部供水管路连通,喷水管道外围加工有一级外围喷嘴阵列(4),一级外围喷嘴阵列(4)中的喷嘴与该外挂喷水管道连通,构成一级外围喷水降噪系统。

4.根据权利要求2或3所述的带喷水抑制外围、高位喷流噪声功能的发射系统,其特征在于:所述喷嘴开口向下,且喷嘴中水流方向与水平方向的夹角为0~90°。

5.根据权利要求4所述的带喷水抑制外围、高位喷流噪声功能的发射系统,其特征在于:所述喷嘴为非凸起结构或凸起结构。

6.根据权利要求1所述的带喷水抑制外围、高位喷流噪声功能的发射系统,其特征在于:在发射平台台体(1)上设置有支承框(20)以及用于燃气流排导燃气的导流孔(21),支承框(20)加工成相互贯通的中空结构,形成内置流道,所述内置流道与外部供水管路连通,作为发射平台的冷却水流道和供水通道;支承框(20)上表面以及面向导流孔(21)的侧壁上开设有与所述内置流道连通的喷水孔阵列;

发射平台台体(1)四周边框为中空结构,与内置流道连通,且发射平台台体(1)四周边框上表面加工有与所述内置流道连通的喷水装置阵列。

7.根据权利要求6所述的带喷水抑制外围、高位喷流噪声功能的发射系统,其特征在于:所述支承框(20)上表面的喷水孔阵列由多个内置非凸起形式的喷水孔构成;支承框(20)面向导流孔(21)侧壁上开设的喷水孔阵列由多个内置喷水孔构成,每个内置喷水孔为凸起形式或非凸起形式;

发射平台台体(1)四周边框上表面的喷水装置阵列采用高位喷水形式,向发射平台台体(1)上表面喷水。

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