[发明专利]一种复材结构优化设计方法有效

专利信息
申请号: 201810698343.8 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN110659525B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 易俊杰 申请(专利权)人: 上海波客实业有限公司
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23
代理公司: 上海助之鑫知识产权代理有限公司 31328 代理人: 王丽影
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 结构 优化 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种复材结构优化设计方法,其特征在于,该方法包括:

1)定义设计变量;

所述设计变量有两种类型:一维单元截面设计变量和二维单元截面设计变量;所述一维单元截面设计变量包含不同的截面类型,截面类型包括:工字型截面、T字型截面、C字型截面、L字型截面、J字型截面和Ω字型截面;

2)定义响应约束;

3)定义目标函数;

4)输出优化求解文件,所述优化的求解文件中包含优化数学模型;

5)提交优化求解器计算求解上述数学模型;

6)优化求解完成后,判断优化定义的约束不等式方程均是否成立;

7)如是,则提取优化结果,优化完成;如否,则调整设计变量及响应约束,重新开始执行步骤一的操作;

所述设计变量定义流程包括:

第一步,定义一维单元截面尺寸设计变量和定义二维单元截面尺寸设计变量;

第二步,定义一维单元截面尺寸设计变量后,还包括:

1)选择截面类型;

2)获取截面尺寸参数;

3)定义参数设计变量尺寸;

4)选择结构单元;

5)进行结构单元循环;

6)创建截面尺寸设计变量和铺层比设计变量;

7)创建截面面积响应;

8)将截面面积响应与结构单元属性相关联;

9)输出设计变量文件;

10)完成设计变量的定义;

第三步,定义二维单元截面尺寸设计变量后,还包括:

1)定义厚度设计变量尺寸;

2)选择结构单元;

3)进行结构单元循环;

4)获取二维结构单元厚度,设计变量初始值;

5)创建厚度设计变量;

6)创建铺层比设计变量;

7)将厚度设计变量与结构单元属性相关联;

8)输出设计变量文件;

9)完成设计变量的定义;

第四步,定义一维单元截面尺寸设计变量后,还包括:

1)定义截面积设计变量尺寸;

2)选择结构单元;

3)进行结构单元循环;

4)获取一维单元截面积;

5)创建截面设计变量文件;

6)将截面积设计变量与结构单元属性相关联;

7)输出设计变量文件;

8)完成设计变量的定义;

所述响应约束定义流程如下:

1)选择约束类型;

2)选择工程方法;

3)输入工程参数系统;

4)选择结构单元;

5)判断结构单元是否定义设计变量;

6)如是,则继续进行下一步操作;如否,则不创建响应约束;

7)获取结构单元尺寸信息、材料信息和载荷信息;

8)创建响应约束;

9)输出响应约束文件;

10)完成响应约束的定义。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述一维单元截面设计变量中长桁腹板和缘条铺层信息相同。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述一维单元截面设计变量中每个角度层厚度定义为一个变量,每个长桁单元有45度、-45度、0度和90度四个厚度变量,铺层为对称均衡铺层;其中,定义45度和-45度厚度设计变量相等。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述一维单元截面设计变量中,长桁面积A定义为一个变量,等效弹性模量E定义为一个变量,面积A和弹性模量E分别与长桁四个铺层角度的厚度变量关联。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述二维单元截面设计变量中,用于厚度尺寸优化的铺层定义为4层,即45度、-45度、0度和90度,铺层为对称均衡铺层,每个单元铺层角度的厚度定义为一个变量,一个单元有45度、-45度、0度和90度四个厚度变量,其中定义45度铺层和-45度铺层厚度相等。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述响应约束包含强度约束、稳定性响应约束、刚度约束和工艺约束。

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