[发明专利]薄膜层叠结构及其制作方法在审
| 申请号： | 201810703235.5 | 申请日： | 2018-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN108984026A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 许晓伟 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 065500 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 纳米金属线 层叠结构 薄膜 基板弯折 保护层 增粘层 粘附性 制作 金属线层 外界环境 移动 内壁 填充 涂覆 磨损 腐蚀 | ||
1.一种薄膜层叠结构，其特征在于，包括：
基板，所述基板上设有若干个凹槽；
纳米金属线层，填充在所述凹槽中；
增粘层，设置在所述纳米金属线层与所述基板之间；以及
保护层，设置在所述基板上，并覆盖所述纳米金属线层。
2.如权利要求1所述的薄膜层叠结构，其特征在于，若干个所述凹槽均匀分布在所述基板上。
3.如权利要求1或2所述的薄膜层叠结构，其特征在于，所述增粘层为金属层。
4.如权利要求3所述的薄膜层叠结构，其特征在于，所述纳米金属线层包括基质及嵌入所述基质中的多根纳米金属线，多根所述纳米金属线之间通过分子力搭接以形成导电网络。
5.如权利要求1或4所述的薄膜层叠结构，其特征在于，所述纳米金属线层为纳米银线层。
6.一种薄膜层叠结构的制作方法，其特征在于，包括：
提供基板，在所述基板上开设若干个凹槽；
在所述凹槽的内壁形成增粘层；
在所述凹槽中形成纳米金属线层；以及
在所述基板上形成保护层，所述保护层覆盖所述纳米金属线层。
7.如权利要求6所述的薄膜层叠结构制作方法，其特征在于，所述基板为柔性基板，所述在所述基板上开设若干个凹槽的步骤包括：刻蚀所述柔性基板以形成若干个凹槽。
8.如权利要求7所述的薄膜层叠结构制作方法，其特征在于，在所述基板的凹槽中形成纳米金属线层的步骤包括：
将纳米金属线溶液涂在所述凹槽中；
去除所述纳米金属线溶液的溶剂，形成所述纳米金属线层。
9.如权利要求8所述的薄膜层叠结构制作方法，其特征在于，通过喷墨打印或印刷的方式将所述纳米金属线溶液涂在所述凹槽中。
10.如权利要求9所述的薄膜层叠结构制作方法，其特征在于，通过加热烘干的方式去除所述纳米金属线溶液的溶剂，形成所述纳米金属线层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云谷（固安）科技有限公司，未经云谷（固安）科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810703235.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
