[发明专利]航天器在轨分子污染吸附装置在审
| 申请号： | 201810711768.8 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN108889272A | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 院小雪;杨东升;臧卫国;王晶虎 | 申请（专利权）人： | 北京卫星环境工程研究所 |
| 主分类号： | B01J20/18 | 分类号： | B01J20/18;B01J20/28;B01J20/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100094 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 航天器 吸附剂层 沸石分子筛 基底材料 分子污染 吸附装置 有机分子污染物 污染物分子 敏感表面 污染控制 污染水平 吸附剂 堇青石 吸附 | ||
【权利要求书】：
1.航天器在轨分子污染吸附装置，包括基底材料和设置在基底材料之上的吸附剂层，其中，基底材料为堇青石，沸石分子筛为吸附剂层，其中，沸石分子筛吸附剂层通过水热合成方法复合在堇青石基底上，所述装置用于设置在航天器的表面上并通过沸石分子筛吸附剂层对其表面上的有机分子污染物进行吸附。
2.如权利要求1所述的航天器在轨分子污染吸附装置，其中，所述装置通过固定装置固定在航天器表面上。
3.如权利要求1所述的航天器在轨分子污染吸附装置，其中，沸石分子筛的类型为13X分子筛。
4.如权利要求1所述的航天器在轨分子污染吸附装置，其中，沸石分子筛的孔径约为1nm。
5.如权利要求1所述的航天器在轨分子污染吸附装置，其中，沸石分子筛为13X，其硅铝比（Si/Al）为1-1.5。
6.航天器在轨分子污染吸附装置，包括基底材料和涂覆在基底材料之上的吸附剂膜，其中，基底材料为热控涂层，沸石分子筛为吸附剂层，其中，沸石分子筛吸附剂膜通过喷涂方式复合在基底材料上，所述装置用于设置在航天器的表面上并通过沸石分子筛吸附剂膜对其表面上的有机分子污染物进行吸附。
7.如权利要求6所述的航天器在轨分子污染吸附装置，其中，所述热控涂层为热控漆或OSR。
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