[发明专利]一种G-M型低温制冷机旋转阀体及其制备方法有效
申请号: | 201810712877.1 | 申请日: | 2018-07-02 |
公开(公告)号: | CN108825841B | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 张吉阜;陈兴驰;刘敏;代明江;邓春明;邓畅光 | 申请(专利权)人: | 广东省新材料研究所 |
主分类号: | F16K27/00 | 分类号: | F16K27/00;C25D11/02;C25D11/06 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吕露 |
地址: | 510000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 旋转阀体 铝合金 氧化铝陶瓷膜 低温制冷机 第一表面 制备 第二表面 阀体本体 工作凸台 通气孔 开孔 材料加工技术 微弧氧化工艺 工作面硬度 夹杂物颗粒 耐磨性 阀体表面 密封效果 密封性能 启动扭矩 使用寿命 低压槽 气室 损伤 贯穿 | ||
1.一种G-M型低温制冷机旋转阀体,其特征在于,其包括铝合金旋转阀体和氧化铝陶瓷膜;
所述铝合金旋转阀体包括阀体本体、高压开孔、工作凸台、低压槽、通气孔和气室;
所述阀体本体具有用于设置所述工作凸台的第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面,所述高压开孔和所述低压槽均设置于所述工作凸台,所述高压开孔沿所述第一表面到所述第二表面的方向贯穿所述阀体本体;所述通气孔设置于所述第一表面并沿所述第一表面到所述第二表面的方向贯穿所述阀体本体;所述气室开设于所述第二表面;
所述氧化铝陶瓷膜镀于所述铝合金旋转阀体的表面。
2.根据权利要求1所述的G-M型低温制冷机旋转阀体,其特征在于,所述工作凸台凸出所述第一表面的高度为0.4-0.6mm。
3.根据权利要求1所述的G-M型低温制冷机旋转阀体,其特征在于,所述氧化铝陶瓷膜的厚度为60-80μm;
优选地,所述氧化铝陶瓷膜中致密层厚度大于等于50μm。
4.根据权利要求1所述的G-M型低温制冷机旋转阀体,其特征在于,所述G-M型低温制冷机旋转阀体中所述工作凸台的表面粗糙度Ra≤0.1μm,其余表面的粗糙度Ra≤3μm。
5.一种如权利要求1-4任一项所述的G-M型低温制冷机旋转阀体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:采用微弧氧化工艺将所述氧化铝陶瓷膜镀于所述铝合金旋转阀体的表面,微弧氧化工艺包括:以置于电解液中的所述铝合金旋转阀体作为处理阳极,施加占空比为20-50%的400-550V正向电压以及占空比为30-80%的50-200V的负向电压,于频率为100-1000Hz以及电解液温度为25-60℃的条件下处理60-90min。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述电解液中含有10-40g/L的硅酸钠、5-15g/L的四硼酸钠以及2-10g/L氢氧化钠。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述电解液中还含有2-10g/L的钨酸钠和15-30g/L的偏铝酸钠。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述电解液中还含有5-30g/L的乙二胺四乙酸二钠和5-30g/L的柠檬酸钠。
9.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,在氧化铝陶瓷膜镀于所述铝合金旋转阀体的表面之后还包括第一次抛光处理,第一次抛光处理是于抛光转速为1500-2000转/分钟的条件下抛光1-2h以去除工件表面的氧化膜疏松层。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,第一次抛光处理后还包括第二次抛光处理,第二次抛光处理是于1500-2000转/分钟的条件下抛光0.5-1h并使所述工作凸台的粗糙度Ra≤0.05μm。
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