[发明专利]偏振膜的制造方法及制造装置

权利要求书

1.一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，其包括：

利用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序；

使所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜依次浸渍于n个交联浴中而进行交联处理的交联工序，其中，n为2以上的整数；以及

对在从上游侧朝向下游侧配置为第x个的第x交联浴中浸渍后取出的所述聚乙烯醇系树脂膜，照射波长大于2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上的电磁波的电磁波照射工序，其中，x为n以下的整数，

各交联浴由硼化合物的浓度为0.5质量％以上的溶液构成，从上游侧朝向下游侧配置为第n个的第n交联浴由所述硼化合物的浓度为2.4质量％以下的溶液构成。

2.根据权利要求1所述的偏振膜的制造方法，其中，在所述电磁波照射工序中，所述电磁波的照射热量相对于所述聚乙烯醇系树脂膜的每单位体积为100J/cm³以上且50kJ/cm³以下。

3.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，x为n。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，第n交联浴的温度为30℃以上。

5.根据权利要求4所述的偏振膜的制造方法，其中，第n交联浴的温度为35℃以上。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，在从上游侧朝向下游侧从第1个配置至第n-1个的交联浴之中，至少一个交联浴由所述硼化合物的浓度为2.5质量％以上的溶液构成。

7.根据权利要求6所述的偏振膜的制造方法，其中，由所述硼化合物的浓度为2.5质量％以上的溶液构成的所述交联浴的温度为45℃以上。

8.根据权利要求7所述的偏振膜的制造方法，其中，由所述硼化合物的浓度为2.5质量％以上的溶液构成的所述交联浴的温度为55℃以上。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，在所述交联工序和所述电磁波照射工序之后，还包括对所述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，对于在第x交联浴中浸渍后取出的所述聚乙烯醇系树脂膜，在所述电磁波照射工序之前还具有将附着在其表面的水分除去的除液工序。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，所述电磁波照射工序在从第x交联浴中取出后的5秒以内进行。

12.一种偏振膜的制造装置，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置，其包括：

利用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色部；

使所述染色处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于n个交联浴中而进行交联处理的交联部，其中，n为2以上的整数；

对在从上游侧朝向下游侧配置为第x个的第x交联浴中浸渍后取出的所述聚乙烯醇系树脂膜，照射波长大于2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上的电磁波的电磁波照射部，其中，x为n以下的整数，

各交联浴由硼化合物的浓度为0.5质量％以上的溶液构成，从上游侧朝向下游侧配置为第n个的第n交联浴由所述硼化合物的浓度为2.4质量％以下的溶液构成。