[发明专利]热反射测量系统

权利要求书

1.一种热反射测量系统，包括：

脉冲激光发生器，用于提供脉冲激光；

光路调整测量装置，接收所述脉冲激光，用于将所述脉冲激光分为用于探测待测样品的第一激光束和用于加热待测样品的第二激光束，并对所述第一激光束和所述第二激光束进行调整，以使所述第一激光束和所述第二激光束间隔预设时长到达待测样品的同一区域，对当前区域的热物性进行测量；

其特征在于，还包括：

近场探测装置，设置在所述光路调整测量装置的输出光路上，用于将所述第一激光束和所述第二激光束传递至所述待测样品，传递所述待测样品反射的所述第一激光束和所述第二激光束；

距离控制装置，用于检测并调整所述近场探测装置与所述待测样品的之间距离；

其中，所述距离控制装置包括：

距离检测组件，用于发射距离检测信号至所述近场探测装置，并接受所述近场探测装置反射的所述距离检测信号；

位置调整组件，与所述近场探测装置连接，用于根据反馈信号调整所述近场探测装置与所述待测样品之间的距离；

其中，所述距离检测信号包括：距离检测激光，所述距离检测组件包括：

半导体激光器，用于发射预设波长的距离检测激光；

光路调整器，用于调整所述距离检测激光的方向，所述距离检测激光照射在所述近场探测装置；

四象限光电探测器，接收所述近场探测装置反射的距离检测激光，并将所述反射的距离检测激光转换为电信号。

2.如权利要求1所述的热反射测量系统，其特征在于，所述近场探测装置包括：

近场探针，具有用于所述第一激光束和所述第二激光束通过的光阑孔。

3.如权利要求2所述的热反射测量系统，其特征在于，所述光阑孔的孔径为100纳米-1000纳米。

4.如权利要求3所述的热反射测量系统，其特征在于，所述光阑孔的孔径为100纳米-250纳米。

5.如权利要求2-4任意一项所述的热反射测量系统，其特征在于，所述近场探针由硅制成。

6.如权利要求1-4任意一项所述的热反射测量系统，其特征在于，所述近场探测装置与所述待测样品的之间距离小于20纳米。

7.如权利要求1所述的热反射测量系统，其特征在于，所述位置调整组件包括：

第一三维工作台和/或第二三维工作台；

所述第一三维工作台用于承载所述近场探测装置；

所述第二三维工作台用于承载所述待测样品。

8.如权利要求1或7所述的热反射测量系统，其特征在于，还包括：

物镜，设置在所述第一激光束、所述第二激光束和所述距离检测激光的光路上，用于对所述第一激光束、所述第二激光和所述距离检测激光进行聚焦。

9.如权利要求8所述的热反射测量系统，其特征在于，

所述热反射测量系统还包括：

对准装置，设置在所述第一激光束、所述第二激光束和所述距离检测激光的光路上，用于根据所述第一激光束、所述第二激光束和所述距离检测激光部分反射光调整所述第一激光束、所述第二激光束和所述距离检测激光与所述近场探测装置的位置关系。