[发明专利]一种非离子型侧链修饰聚苯并咪唑膜及其制备方法

权利要求书

1.一种非离子型侧链修饰聚苯并咪唑膜，其特征在于，所述的非离子型侧链修饰聚苯并咪唑膜的结构式如下：

其中，x＝0～1；y＝0～1；n为2～10的正整数。

2.一种非离子型侧链修饰聚苯并咪唑膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：

(1)聚苯并咪唑聚合物的溶解：在惰性气体保护下，50～80℃的油浴锅中将聚苯并咪唑溶解于溶剂A中，完全溶解后再加入碳酸钾，反应3h以上；

所述的聚苯并咪唑：碳酸钾的摩尔比为1：1～3；

所述的聚苯并咪唑、碳酸钾在溶剂A中的w/v均为1～20％；

所述的溶剂A为二甲基亚砜或N,N-二甲基乙酰胺；

(2)非离子型侧链修饰聚苯并咪唑聚合物的合成：将含有羟基的溴单体加入到一定量的溶剂A中进行稀释，得到稀释液；将稀释液每四个小时一次，每次1～2ml加到步骤(1)的反应液中，加完后在50～80℃反应12h以上；

所述的含有羟基的溴单体结构如下：

其中n为2～10的正整数；

所述的聚苯并咪唑：含有羟基的溴单体的摩尔比不大于3；

所述的含有羟基的溴单体在溶剂A中的w/v为1～15％；

(3)非离子型侧链修饰聚苯并咪唑膜的制备：将步骤(2)得到的反应溶液倒入沉淀剂B中，过滤，洗涤之后再浸泡于去离子水中12h，过滤、洗涤、干燥；再将产物溶于溶剂C中配成铸膜液后浇铸成膜，将膜浸泡于1mol/L硫酸溶液中24～48h，在去离子水中浸泡将膜表面多余的酸除掉，即得非离子型侧链修饰聚苯并咪唑膜；

所述的溶剂C为二甲基亚砜、N,N-二甲基乙酰胺中的一种；

所述的沉淀剂B为丙酮，乙酸乙酯中的一种；

所述的铸膜液w/v为2.5～10％。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述的聚苯并咪唑的分子量为5000～200000。

4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述的非离子型侧链修饰聚苯并咪唑聚合物的洗涤次数为三次以上。

5.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述的干燥为真空干燥，温度为40～100℃，时间为8小时以上。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述的干燥为真空干燥，温度为40～100℃，时间为8小时以上。

7.根据权利要求2、3或6所述的制备方法，其特征在于，浇铸法成膜的烘干温度为50～80℃，时间为24～48小时。

8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，浇铸法成膜的烘干温度为50～80℃，时间为24～48小时。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，浇铸法成膜的烘干温度为50～80℃，时间为24～48小时。

10.根据权利要求2、3、6、8或9所述的制备方法，其特征在于：步骤(1)中加入碳酸钾后的反应条件为：温度为30～80℃，时间为12小时以上。