[发明专利]一种阿奇霉素重排杂质R的合成方法有效
申请号: | 201810715032.8 | 申请日: | 2018-06-29 |
公开(公告)号: | CN108530494B | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 杨政;唐金龙 | 申请(专利权)人: | 宜昌东阳光生化制药有限公司 |
主分类号: | C07H1/00 | 分类号: | C07H1/00;C07H1/06;C07H17/00 |
代理公司: | 宜昌市慧宜专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 42226 | 代理人: | 彭娅 |
地址: | 443300 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 霉素 重排 杂质 合成 方法 | ||
本发明属于化学技术领域,具体涉及一种阿奇霉素重排杂质R的合成方法。其主要步骤为:(3R,4R,5S,6R,9R,10S,11S,12R,13R,15R,Z)‑12‑[[3,4,6‑三脱氧‑3‑(二甲氨基)‑β‑D‑木‑已吡喃糖基]氧]‑6‑乙基‑4,5‑二羟基‑10‑[(2,6‑二脱氧‑3‑C‑甲基‑3‑O‑甲基‑a‑L‑核‑已吡喃糖基)氧]‑3,5,9,11,13,15‑六甲基‑7,16‑二氧‑2‑氮杂双环[11.2.1]十六烷‑1‑烯‑8‑酮(化合物Ⅱ)经过酸化重排,精制后得到纯度>99.5%以上的重排杂质R。合成的高纯度阿奇霉素重排杂质R作为成品检测的杂质标准品,有利于加强对该杂质的定位和定性,提高对阿奇霉素原料药的质量控制。
技术领域
本发明属于化学技术领域,具体涉及一种阿奇霉素重排杂质R的合成方法。
背景技术
阿奇霉素化学名称为-(2R,3S,4R,5R,8R,10R,11R,12S,13S,14R)-13-[(2,6-二脱氧-3-C-甲基-3-O-甲基-a-L-核-已吡喃糖基)氧]-2-乙基-3,4,10-三羟基-3,5,6,8,10,12,14-七甲基-11-[[3,4,6-三脱氧-3-(二甲氨基)-β-D-木-已吡喃糖基]氧]-1-氧杂-6-氮杂环十五烷-15酮,作为第二代大环内酯类抗生素,与红霉素相比,阿奇霉素的化学稳定性增强,降低了红霉素因为酸性降解而失去活性的问题,提高了血药浓度,大大延长了半衰期,被用于呼吸道、皮肤、泌尿系统和软组织感染的药物。该药已被列入《国家基本药品名录》,具有广阔的市场前景。目前我国年产阿奇霉素超过1000吨,是世界上阿奇霉素主要的生产国。
阿奇霉素重排杂质R是阿奇霉素中国药典中重要的杂质,其是阿奇霉素关键中间体红霉素A 6,9-亚胺醚的同分异构体。经检索目前无合成该杂质的方法,因此合成该杂质并确定其结构、研究其形成机理,对阿奇霉素工艺优化和质量提升有重要意义。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提出了一种阿奇霉素重排杂质R的合成方法。
本发明技术方案:
一种阿奇霉素重排杂质R的合成方法,阿奇霉素重排杂质R结构如下:
所述阿奇霉素重排杂质R按照以下路线进行合成:
主要包含以下两个步骤:
3)化合物Ⅱ加入溶剂1,试剂2升温搅拌反应;加水洗涤,分层,取有机层,减压蒸馏回收有机层溶剂1,得杂质粗品;
4)精制:将杂质粗品中加入溶剂3重结晶得到阿奇霉素重排杂质R;
所述化合物Ⅱ为3R,4R,5S,6R,9R,10S,11S,12R,13R,15R,Z)-12-[[3,4,6-三脱氧-3-(二甲氨基)-β-D-木-已吡喃糖基]氧]-6-乙基-4,5-二羟基-10-[(2,6-二脱氧-3-C-甲基-3-O-甲基-a-L-核-已吡喃糖基)氧]-3,5,9,11,13,15-六甲基-7,16-二氧-2-氮杂双环[11.2.1]十六烷-1-烯-8-酮。
优选地,所述步骤1)溶剂1为二氯甲烷,试剂2为5%盐酸。
优选地,所述化合物Ⅱ与二氯甲烷的固液比为1:4~6;
优选地,所述化合物Ⅱ与5%盐酸的固液比为1:0.18~0.22。
优选地,所述步骤1)反应温度为35~45℃,反应时间为4~6h。
优选地,所述步骤2)溶剂3为精制溶剂丙酮,杂质粗品与丙酮的固液比为1:0.4~0.6。
本发明有益效果如下:
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