[发明专利]一种疏水侧链修饰烷基磺化聚苯并咪唑两性膜及其制备方法

权利要求书

1.一种疏水侧链修饰烷基磺化聚苯并咪唑两性膜的制备方法，其特征在于，所述的疏水侧链修饰烷基磺化聚苯并咪唑两性膜结构式如下：

其中x＝0～1，y＝0～1；n＝2～12的正整数；

所述的制备方法，步骤如下：

(1)烷基磺化聚苯并咪唑聚合物的合成：在惰性气体保护下，20～60℃的油浴锅中将聚苯并咪唑溶解于溶剂A中，完全溶解后再加入氢化钠，反应3-5h后，然后加入1,3-丙烷磺酸内酯，温度为30～80℃，反应12h以上；

所述的1,3-丙烷磺酸内酯：氢化钠：聚苯并咪唑的摩尔比为1.7:2:1；

所述的聚苯并咪唑、氢化钠、1,3-丙烷磺酸内酯在溶剂A中的w/v均为1～20％；

所述的溶剂A为二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺或N,N-二甲基乙酰胺；

(2)疏水侧链修饰烷基磺化聚苯并咪唑聚合物的合成：将含有脂肪链的溴单体加入到步骤(1)得到的反应液中，在20～60℃反应12h以上；

所述的含有脂肪链的溴单体结构如下：

其中n＝2～15的正整数；

所述的聚苯并咪唑：含有脂肪链的溴单体的摩尔比不大于1；

所述的含有脂肪链的溴单体在溶剂A中的w/v为1～15％；

(3)疏水侧链修饰烷基磺化聚苯并咪唑两性膜的制备：将步骤(2)得到的反应溶液倒入沉淀剂B中，过滤、洗涤、干燥；再将产物溶于溶剂C中配成铸膜液后浇铸成膜；将膜浸泡于1mol/L硫酸溶液中24～48h，在去离子水中浸泡将膜表面多余的酸除掉，即可得疏水侧链修饰烷基磺化聚苯并咪唑两性膜；

所述的溶剂C为二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺或N,N-二甲基乙酰胺；

所述的沉淀剂B为丙酮或乙酸乙酯；

所述的铸膜液的w/v为2.5～10％。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的聚苯并咪唑分子量为5000～200000。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中的洗涤的次数为三次以上。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述的干燥为真空干燥，温度为40～100℃，时间为8小时以上。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述的干燥为真空干燥，温度为40～100℃，时间为8小时以上。

6.根据权利要求1、2或5所述的制备方法，其特征在于，浇铸成膜的烘干温度为50～80℃，时间为24～48小时。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，浇铸成膜的烘干温度为50～80℃，时间为24～48小时。

8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，浇铸成膜的烘干温度为50～80℃，时间为24～48小时。