[发明专利]一种防蓝光量子点膜及其制备方法在审
申请号: | 201810719581.2 | 申请日: | 2018-07-03 |
公开(公告)号: | CN108822753A | 公开(公告)日: | 2018-11-16 |
发明(设计)人: | 黄明鹭;王翔;吴敬伟 | 申请(专利权)人: | 厦门市京骏科技有限公司 |
主分类号: | C09J7/24 | 分类号: | C09J7/24;C09J7/25;C08J5/18;C08J7/04;C08L33/12;C08L67/02;C08L25/06 |
代理公司: | 厦门龙格专利事务所(普通合伙) 35207 | 代理人: | 郑晓荃 |
地址: | 361000 福建省厦门市翔安区*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子点 光转换层 光量子 蓝光 制备 光化学 高分子聚合物 固化成型 技术效果 蓝光激发 透明材料 保护层 膜整体 包覆 基材 复合 转换 外部 吸收 | ||
1.一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤一、制备光转换层,包括如下步骤:
1)按比例分别称取红色量子点和绿色量子点,然后将两种量子点溶于有机溶剂中,然后将混有量子点的有机溶剂加入透明树脂单体形成量子点和透明树脂单体的混合溶液;
2)将混合液混合均匀后进行原位聚合,固化成膜后形成光转换层,所述光转换层以树脂为基材,且所述基材内量子点均匀分布;
步骤二:制备保护层,包括如下步骤:
1)对光转换层表面进行除尘、干燥、防静电处理;
2)在光转换层上均匀涂覆保护层并固化。
2.如权利要求1所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于,还包括:
步骤三、附着胶黏层:
在光转换层的一面附着压敏胶,并在压敏胶表面覆盖封胶纸。
3.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:步骤一中所述绿色量子点和红色量子点的质量比在50:1~50:3之间。
4.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:步骤一中所述有机溶剂为环己烷、正己烷、乙醇、甲醇、异丙醇、丙酮、乙酸乙酯、苯甲醚、四氢呋喃、1-十八烯、油酸以及液体石蜡中的一种或多种。
5.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:步骤一中所述的透明树脂为PMMA、PET、PS、PE、PVC、PA、PC单体中的一种或多种。
6.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:将混有量子点的有机溶剂逐滴加入步骤一所述透明树脂单体中,其中量子点占透明树脂单体质量的比例为0.01%~1.25%;有机溶剂占树脂单体的质量比比例为0.1~2%。
7.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:步骤一中所述光转换层厚度1~500μm。
8.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:步骤二中所述保护层厚度为0.1~100μm。
9.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:步骤二中所述的保护层主要为树脂和无机物复合材料,其中树脂为PE、PVA、EVOH、PVC、PVDC、PEN、PA、PP、PET、PC、PS中的一种或几种;无机物为Al2O3、ZrO2、SiC、Si3N4、SiO2、TiO2、硅酸盐、碳化物以及氮化物中的一种或几种。
10.如权利要求9所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:所述的保护层的固化方法为聚合物多层工艺、化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)、双磁控反应溅射工艺以及层层自组装(LBL)方法中的一种或几种。
11.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:步骤二中所述保护层与光转换层结合方式为涂覆、印刷、粘结、电镀、真镀中的一种或几种。
12.如权利要求1或2所述的一种防蓝光量子点膜的制备方法,其特征在于:步骤三中所述压敏胶为具有抗氧化性的丙烯酸酯类、有机硅类、聚氨酯类材料中的一种或几种。
13.一种防蓝光量子点膜,其特征在于:所述防蓝光量子点膜由权利要求1-12中任意步骤制得,所述量子点膜整体为透明材料,其包括光转换层以及包覆在所述光转换层外部的保护层;所述光转换层内均匀分布有量子点。
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