[发明专利]复合光催化纳米材料及其制备方法、以及降解污染物方法有效
申请号: | 201810721154.8 | 申请日: | 2018-07-04 |
公开(公告)号: | CN108816268B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 孙仕勇;马彪;张博;范小雨;董发勤;任域权 | 申请(专利权)人: | 西南科技大学 |
主分类号: | B01J27/24 | 分类号: | B01J27/24;B01J37/03;C02F1/30;C02F101/30;C02F101/10 |
代理公司: | 成都中玺知识产权代理有限公司 51233 | 代理人: | 邢伟;熊礼 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合 光催化 纳米 材料 及其 制备 方法 以及 降解 污染物 | ||
1.一种g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
将质量比为(0.5~6):(0.2~10)的g-C3N4和FeCl3·6H2O充分溶解于溶剂中,得到混合溶液;
向混合溶液中加入3-氨丙基三乙氧基硅烷,搅拌得到固液混合的浆液,其中,浆液中FeCl3和3-氨丙基三乙氧基硅烷的摩尔比为(1.8~2.0):1;
获取所述浆液中的固体沉淀;
将所述沉淀进行干燥,得到所述复合光催化纳米材料。
2.根据权利要求1所述的g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料的制备方法,其特征在于,所述g-C3N4包括g-C3N4纳米片,所述g-C3N4的(002)晶面对应层间距为0.31~0.35nm,禁带宽度为2.5~2.9eV。
3.根据权利要求1所述的g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料的制备方法,其特征在于,所述g-C3N4由三聚氰胺煅烧、粉碎后得到。
4.根据权利要求3所述的g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料的制备方法,其特征在于,所述煅烧时间为2~4h,煅烧过程包括:在密闭环境中,以3~6℃/min的升温速度将三聚氰胺由室温升至550~600℃,然后保温。
5.根据权利要求1所述的g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料的制备方法,其特征在于,所述方法还包括步骤:
在得到所述浆液后,对所述浆液进行超声分散。
6.根据权利要求1所述的g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括步骤:
在将所述沉淀进行干燥之前,用无水乙醇洗涤所述沉淀,以除去沉淀中的多余的FeCl3。
7.一种g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料,其特征在于,所述材料包括g-C3N4和Fe-aminoclay,其中,所述材料中g-C3N4和Fe-aminoclay的质量比为1:(0.04~10)。
8.根据权利要求7所述的g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料,其特征在于,g-C3N4为类石墨的片层结构,并作为所述材料的支撑载体,所述Fe-aminoclay负载在所述g-C3N4的片层表面上。
9.一种降解有机和/或无机污染物的方法,其特征在于,所述方法包括采用如权利要求7或8所述的g-C3N4/Fe-aminoclay复合光催化纳米材料进行光催化降解有机和/或无机污染物。
10.根据权利要求9所述的降解有机和/或无机污染物的方法,其特征在于,所述污染物包括:RhB和MO中的至少一种。
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