[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，其特征在于，包括：

(A)成分，即，包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具有下述通式(A1)表示的局部结构的锍盐；以及，

(B)成分，即，包含下述通式(B1)表示的重复单元的高分子化合物，

式中，R^fa及R^fb各自独立地为碳原子数为1～4的氟烷基；R^Xa为氢原子或酸不稳定基团；R^a及R^b各自独立地为氢原子、或为可包含杂原子的碳原子数为1～10的一价烃基；R^a及R^b也可以彼此键合，并与它们所键合的碳原子一起形成环；A^1a为醚键或硫醚键；L^1a为单键、或为可包含杂原子的碳原子数为1～20的二价连接基团；＊表示结合键，

式中，v为0或1，w为0～2的整数；R^A为氢原子、氟原子、甲基及三氟甲基中的任一种；R¹¹各自独立地为氢原子、卤素原子、可被卤素取代的直链状、支链状或环状的碳原子数为2～8的酰氧基、可被卤素取代的直链状、支链状或环状的碳原子数为1～6的烷基、或可被卤素取代的直链状、支链状或环状的碳原子数为1～6的烷氧基；A¹为单键、或为直链状、支链状或环状的碳原子数为1～10的亚烷基，碳-碳键之间可介入有醚键；a为满足0≤a≤5+2w-b的整数；b为1～3的整数，

所述锍盐的所述阴离子为下述阴离子：

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分为下述通式(A2)表示的物质，

式中，R¹、R²及R³各自独立地为氢原子、所述通式(A1)表示的局部结构、可包含杂原子的碳原子数为1～20的直链状、支链状或环状的一价烃基、及与邻接的苯环的直接键合中的任一种；p、q及r各自独立地为0～5的整数；p、q或r为2以上时，对应的多个R¹、R²或R³可以相同也可以不同，p+q+r表示2以上时，多个R¹、R²或R³也可以彼此键合，并与它们所键合的苯环上的碳原子一起形成环，R¹与R²、R¹与R³、或R²与R³也可以彼此键合，并与它们所键合的两个苯环及式中的硫原子一起形成环；其中，R¹、R²及R³中的一个以上为所述通式(A1)表示的局部结构，此时，所述通式(A1)中的＊表示与苯环的结合键；Z^-为一价的阴离子。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分为R^fa及R^fb是三氟甲基、R^a及R^b是氢原子的锍盐。

4.根据权利要求2所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分为R^fa及R^fb是三氟甲基、R^a及R^b是氢原子的锍盐。

5.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分为L^1a是单键的锍盐。

6.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分为A^1a是醚键的锍盐。

7.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述(A)成分为R^Xa是氢原子或甲氧基甲基的锍盐。