[发明专利]MoNb靶材有效
| 申请号： | 201810723639.0 | 申请日： | 2018-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN109207941B | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 福冈淳;青木大辅;齐藤和也;上野英 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C27/04;C22C1/04;B22F1/00;B22F3/14 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | monb 靶材 | ||
【权利要求书】：
1.一种MoNb靶材，其具有含有5原子％～30原子％的Nb、余量为Mo和不可避免的杂质的组成，每200000μm2的溅射面中，具有超过70μm的最大长度的Nb相不足1.0个，Nb相的平均圆当量直径为25μm～65μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立金属株式会社，未经日立金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810723639.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：物理气相沉积的靶结构
- 下一篇：一种金属膜层沉积方法和金属膜层沉积设备
- 同类专利
- 专利分类
