[发明专利]氧化铟-氧化锌类（IZO）溅射靶及其制造方法在审
| 申请号： | 201810723839.6 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108930015A | 公开（公告）日： | 2018-12-04 |
| 发明（设计）人： | 挂野崇 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射靶 氧化锌类 氧化铟 体电阻率 翘曲 制造 面内偏差 烧结体靶 溅射面 烧结体 原子比 氧化物 减小 磨削 | ||
1.一种溅射靶，其为包含In、Zn、O的溅射靶，其特征在于，Zn和In的原子比满足0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.30，并且该靶的溅射面内的体电阻率的标准偏差为1.0mΩ·cm以下。
2.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述溅射靶的体电阻率为1.0mΩ·cm～10mΩ·cm。
3.如权利要求1或2所述的溅射靶，其特征在于，所述溅射靶的相对密度为98％以上。
4.如权利要求1至3中任一项所述的溅射靶，其特征在于，溅射面的面积为60000mm2～400000mm2。
5.一种IZO烧结体，其为包含In、Zn、O的烧结体，其特征在于，Zn和In的原子比满足0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.30，并且翘曲量为2.0mm以内。
6.一种溅射靶的制造方法，其为包含通过对将原料粉末压制成形而得到的成形体进行烧结而制造的IZO烧结体的溅射靶的制造方法，其特征在于，在从室温升温至烧结温度的工序中，包含以下工序：
将中途保持温度设定为600℃～800℃，并保持1小时～10小时的工序；
以0.2℃/分钟～2.0℃/分钟的速度从该中途保持温度升温至烧结温度的工序；和
将烧结温度设定为1350℃～1500℃，并以1小时～100小时的烧结保持时间进行烧结的工序。
7.如权利要求6所述的溅射靶的制造方法，其特征在于，将烧结温度设定为1380℃～1420℃。
8.如权利要求6或7所述的溅射靶的制造方法，其特征在于，以5小时～30小时的烧结保持时间进行烧结。
9.如权利要求6至8中任一项所述的溅射靶的制造方法，其特征在于，以1.0℃/分钟～5.0℃/分钟的速度进行降温。
10.如权利要求6至9中任一项所述的溅射靶的制造方法，其特征在于，以0.5℃/分钟～1.5℃/分钟的速度从中途保持温度升温至烧结温度。
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