[发明专利]一种清洁装置在审
申请号: | 201810724796.3 | 申请日: | 2018-07-04 |
公开(公告)号: | CN108888196A | 公开(公告)日: | 2018-11-27 |
发明(设计)人: | 韩继武;王子羲 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | A47L11/28 | 分类号: | A47L11/28;A47L11/40 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 张建纲 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗装置 自清洗模块 清洁腔 清洁介质 清洁装置 过滤装置 清洁效率 回收 超声清洁设备 动力模块 干燥装置 更换频率 回收装置 内部设置 清洁模块 清洁液 拖布 过滤 清洗 | ||
1.一种清洁装置,其特征在于,包括动力模块、清洁模块、循环自清洗模块,所述循环自清洗模块包括含有清洁介质的清洁腔、位于所述清洁腔内的一级清洗装置、二级清洗装置、干燥装置和过滤装置;所述动力模块用于驱动所述清洁模块,以使得所述清洁模块的工作部分在进入所述自清洗清洁装置内部时,能够依次经所述一级清洗装置、二级清洗装置和干燥装置;所述过滤装置位于所述循环自清洗模块的清洁腔底部,用于对所述工作部分经所述二级清洗装置清洗后的清洁介质进行过滤;所述循环自清洗模块还包括辅助清洗装置,所述辅助清洗装置包括超声清洁设备,所述超声清洁设备能够配合所述二级清洗装置对所述清洁模块的工作部分进行清洗;还包括回收模块,所述回收模块能够对所述清洁腔内经过滤的清洁介质进行回收。
2.如权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述一级清洗装置包括刮擦装置和存储仓,所述刮擦装置用于去除所述清洁模块的工作面上的粗颗粒,所述存储仓用于将所述粗颗粒进行收集。
3.如权利要求2所述的清洁装置,其特征在于,所述二级清洗装置包括清洁辊,所述清洁辊在所述动力模块的驱动下旋转以清洁所述清洁模块的工作部分,所述工作部分与所述清洁辊接触的部分位于所述清洁介质内。
4.如权利要求3所述的清洁装置,其特征在于,所述干燥装置包括挤压辊,用于对所述二级清洗装置清洁后的工作面进行挤压干燥。
5.如权利要求4所述的清洁装置,其特征在于,所述过滤装置包括滤网,所述滤网位于所述清洁腔底部,并在所述清洁腔底面和所述滤网之间形成空间,所述清洁介质经所述滤网过滤后存储于所述空间内。
6.一种清洁装置,其特征在于,包括动力模块、清洁模块、循环自清洗模块,所述循环自清洗模块包括含有清洁介质的清洁腔、位于所述清洁腔内的一级清洗装置、二级清洗装置、干燥装置和过滤装置;所述动力模块用于驱动所述清洁模块,以使得所述清洁模块的工作部分在进入所述自清洗清洁装置内部时,能够依次经所述一级清洗装置、二级清洗装置和干燥装置;所述过滤装置位于所述循环自清洗模块的清洁腔底部,用于对所述工作部分经所述二级清洗装置清洗后的清洁介质进行过滤;所述循环自清洗模块还包括辅助清洗装置,所述辅助清洗装置包括超声清洁设备,所述超声清洁设备能够配合所述二级清洗装置对所述清洁模块的工作部分进行清洗;包括回收模块,所述回收模块能够对所述清洁腔内经过滤的清洁介质进行回收。
7.如权利要求6所述的清洁装置,其特征在于,所述循环自清洗模块还包括高压喷嘴,所述高压喷嘴位于所述清洁腔内,对所述所述清洁模块的工作部分进行高压喷冲。
8.如权利要求7所述的清洁装置,其特征在于,所述过滤装置包括滤网,所述滤网位于所述清洁腔底部,并在所述清洁腔底面和所述滤网之间形成空间,所述清洁介质经所述滤网过滤后存储于所述空间内。
9.如权利要求8所述的清洁装置,其特征在于,还包括用于存储清洁介质的辅助存储空间,所述辅助存储空间形成在所述清洁装置的主体外部或内部;所述空间的侧壁、底部的至少一个上设置有回水孔,经所述滤网过滤的清洁介质经回水孔返回至所述辅助存储空间内。
10.如权利要求9所述的清洁装置,其特征在于,所述高压喷嘴与所述辅助存储空间相连通。
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