[发明专利]溅射靶有效
| 申请号： | 201810731798.5 | 申请日： | 2015-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN108754437B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 远藤瑶辅 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种溅射靶，由不锈钢、钛或铝的任一种材质构成的衬管或衬板与铟构成的靶主体的双层结构构成，使通过超声波探伤测定的所述衬管或衬板与靶主体之间的粘接率为95％以上，使所述衬管或衬板的、与靶主体之间的接合表面的表面粗糙度Ra为4.0μm以上。
2.根据权利要求1所述的溅射靶，其中，所述靶主体还含有选自Ni、Fe、Cr、Ti、Al、Si的至少一种，并且每种含量均为10wtppm以下。
3.根据权利要求1所述的溅射靶，其中，所述靶主体还含有选自Cu、Ga的至少一种，并且每种含量均为10000wtppm以下。
4.根据权利要求2所述的溅射靶，其中，所述靶主体还含有选自Cu、Ga的至少一种，并且每种含量均为10000wtppm以下。
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