[发明专利]基板处理装置及元件制造方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其使基板往与宽度方向交叉的搬送方向移动，将根据描绘数据而调变强度后的描绘光束，一边投射至前述基板上一边于前述宽度方向进行扫描以于前述基板上描绘图案，该基板处理装置具备：

基板搬送机构，一边支承前述基板、一边将前述基板以既定速度往前述搬送方向搬送；

描绘装置，具有排列于前述宽度方向的多个描绘模块，前述多个描绘模块沿着将投射于前述基板的前述描绘光束于较前述基板的宽度窄的范围远心地扫描于前述宽度方向而得到的描绘线将既定图案描绘于前述基板上，前述描绘装置在将前述多个描绘模块的各个依前述宽度方向的排列顺序设为奇数号与偶数号时，以通过彼此相邻的前述奇数号的描绘模块的描绘线与前述偶数号的描绘模块的描绘线的各个而描绘于前述基板上的图案彼此在前述基板宽度方向相接合的方式，前述奇数号的描绘线与前述偶数号的描绘线于前述搬送方向相隔既定间隔配置，并且从前述宽度方向观察时，前述奇数号的描绘模块与前述偶数号的描绘模块隔着前述既定的间隔而对称地配置，借此，使沿着前述奇数号的描绘线的前述描绘光束的扫描方向，与沿着前述偶数号的描绘线的前述描绘光束的扫描方向为相反方向；

基板速度检测装置，检测出前述基板的搬送速度的变化；

倾斜调整机构，用以调整前述奇数号的描绘线与前述偶数号的描绘线的各个相对于前述基板宽度方向的相对倾斜；以及

控制装置，和以前述基板速度检测装置检测出的前述搬送速度的变化相应地控制前述倾斜调整机构。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，前述控制装置，在以前述基板速度检测装置检测出的前述搬送速度较既定的基准速度快时，控制前述倾斜调整机构，使前述奇数号与前述偶数号的各个的前述描绘线的描绘开始侧位于较前述基准速度的前述描绘线的描绘开始侧在前述搬送方向上游侧，使前述奇数号与前述偶数号的各个的前述描绘线的描绘结束侧位于较前述基准速度的前述描绘线的描绘结束侧在前述搬送方向下游侧。

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，前述控制装置，在以前述基板速度检测装置检测出的前述搬送速度较既定的基准速度慢时，控制前述倾斜调整机构，使前述奇数号与前述偶数号的各个的前述描绘线的描绘开始侧位于较前述基准速度的前述描绘线的描绘开始侧在前述搬送方向下游侧，使前述奇数号与前述偶数号的各个的前述描绘线的描绘结束侧位于较前述基准速度的前述描绘线的描绘结束侧在前述搬送方向上游侧。

4.如权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置，其中，前述多个描绘模块的各个，具有为了在沿着前述描绘线的一方向扫描前述描绘光束的期间中进行前述图案的描绘动作而产生根据前述图案的描绘数据调变强度后的前述描绘光束的调变器，与将前述描绘光束沿着前述描绘线一维扫描的扫描器。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其中，前述描绘装置具备保持前述多个描绘模块的平台；

前述倾斜调整机构包含旋转机构，该旋转机构以包含以前述多个描绘模块的各个形成的前述描绘线的描绘面内的既定点为中心，在前述描绘面内使前述平台旋转。

6.如权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置，其中，前述描绘装置包含保持前述多个描绘模块的平台；

前述倾斜调整机构包含旋转机构，该旋转机构以包含以前述多个描绘模块形成的各前述描绘线的描绘面内的既定点为中心，在前述描绘面内使前述平台旋转；

前述控制装置，和以前述基板速度检测装置检测出的前述搬送速度的变化相应地驱动控制前述旋转机构。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其中，前述控制装置，以由在前述宽度方向彼此相邻的前述奇数号的描绘线与前述偶数号的描绘线的各个所描绘的图案彼此的接合部，在前述旋转机构所致的前述平台的旋转后亦在前述搬送方向或前述宽度方向中于前述基板上为同一位置的方式，修正前述描绘模块的各个的描绘时点。