[发明专利]一种应用于半导体废气处理设备用等离子电极装置在审
申请号: | 201810734094.3 | 申请日: | 2018-07-06 |
公开(公告)号: | CN108744902A | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 崔汉博;崔汉宽 | 申请(专利权)人: | 上海高生集成电路设备有限公司 |
主分类号: | B01D53/32 | 分类号: | B01D53/32;H05H1/34 |
代理公司: | 北京易光知识产权代理有限公司 11596 | 代理人: | 李韵 |
地址: | 201315 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 阳极 阴极 外腔 阴极套 下端 半导体废气处理设备 磁极 等离子电极 绝缘套 水头 磁环 导管 废气处理效果 进水连接件 安全性能 螺纹连接 上下两端 维修保养 上端 侧连接 导水盘 固定环 连接杆 进水 旋环 供气 应用 | ||
本发明公开了一种应用于半导体废气处理设备用等离子电极装置,包括连接水头,连接水头下侧通过螺纹连接有进水连接件,进水连接杆下侧安装有导管,导管外侧连接有阴极套,阴极套下端安装有阴极,阴极外侧固定连接有阴极固定环,阴极套外侧固定连接有绝缘套,绝缘套外侧安装有气体旋环,阴极外腔下侧连接有阳极外腔,阳极外腔内部下端设置有磁极套,磁极套内部上下两端安装有磁环,磁环内侧安装有阳极,阳极下端与导水盘进行连接,阳极上端通过阳极外套与阳极外腔进行连接。本发明废气处理效果好,升温快,直接缩短维修保养时间,增加产量,提高经济效益,提高了供气、系统的安全性能。
技术领域
本发明涉及一种半导体领域,具体是一种应用于半导体废气处理设备用等离子电极装置。
背景技术
半导体(semiconductor),指常温下导电性能介于导体(conductor)与绝缘体(insulator)之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。如二极管就是采用半导体制作的器件。半导体是指一种导电性可受控制,范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看,半导体的重要性都是非常巨大的。今日大部分的电子产品,如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,而硅更是各种半导体材料中,在商业应用上最具有影响力的一种。半导体可以分为四类产品,分别是集成电路、光电子器件、分立器件和传感器,生产加工中四类都会产生废气,都需使用废气处理设备。
现有应用于半导体废气处理设备上的方案有:(1)电热丝/棒加热式,将电热丝/棒加热控制在600-1000℃之间,将经过反应腔体的废气高温分解,但是电热丝/棒方式,加热温度低、废气处理效果差、分解不完全、升温慢、效率低等。(2)天然气/氢气燃烧式,加氧气或空气等助燃气体将经过反应腔体的废气高温燃烧分解,但是天然气/氢气燃烧式,对氢气纯度要求高,需要氢气、氧气等供应系统等,有一定的危险性,例如易爆炸。(3)活性炭吸附式,将经过活性炭废气中的毒害物质吸附,活性炭吸附式,只能吸附部分毒害气体,适用范围受限,吸附能力有限,容易堵塞,需定期更换。因此,本领域技术人员提供了一种应用于半导体废气处理设备用等离子电极装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种应用于半导体废气处理设备用等离子电极装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种应用于半导体废气处理设备用等离子电极装置,包括连接水头,所述连接水头下侧通过螺纹连接有进水连接件,所述进水连接杆下侧安装有导管,所述导管外侧连接有阴极套,所述阴极套下端安装有阴极,所述阴极外侧固定连接有阴极固定环,所述阴极套外侧固定连接有绝缘套,所述绝缘套外侧安装有气体旋环,所述气体旋环外侧安装有阴极外腔内部,所述阴极外腔上侧和进水连接件进行连接,所述阴极外腔下侧连接有阳极外腔,所述阳极外腔内部下端设置有磁极套,所述磁极套内部上下两端安装有磁环,所述磁环内侧安装有阳极,所述阳极安装在阴极的下方固定位置,所述阳极上端通过O型密封圈与阳极外腔进行连接,所述阳极外腔下侧通过螺丝与导气盘进行连接。
作为本发明进一步的方案:所述阴极为深槽设计,可以起到更好的降温效果。
作为本发明进一步的方案:所述阴极上端通过O型密封圈与阴极套进行连接,起到密封、隔离水的作用。
作为本发明进一步的方案:所述阳极外腔上端通过螺栓与阴极外腔进行连接。
作为本发明进一步的方案:所述磁环下端均设置有绝缘隔板,起到很好的防护作用。
作为本发明再进一步的方案:下端的绝缘隔板下侧设置有导水盘,所述导水盘安装在阳极外腔内部下端。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海高生集成电路设备有限公司,未经上海高生集成电路设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810734094.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。