[发明专利]显示基板及其制作方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括：

阵列基板；

像素定义层，形成于所述阵列基板上；所述像素定义层界定出多个像素定义开口，每一所述像素定义开口具有底部及侧壁；

有机发光单元，形成于所述像素定义开口内；

其特征在于，所述显示基板还包括结合于所述像素定义层背离所述阵列基板一侧的无机材料层和位于所述有机发光单元背离所述阵列基板的一侧的阴极；所述像素定义层为有机材料层，所述无机材料层覆盖所述像素定义层除所述像素定义开口的底部外的区域；

所述阴极覆盖所述无机材料层和所述有机发光单元。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述无机材料层包括氧化硅、氮氧化硅或氮化硅中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述无机材料层的厚度为200纳米-500纳米。

4.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，所述像素定义层掺杂有无机材料。

5.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，所述无机材料层通过化学气相沉积、物理气相沉积、涂布或打印方式形成于所述像素定义层背离所述阵列基板一侧。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述无机材料层通过化学气相沉积方式形成于所述像素定义层背离所述阵列基板一侧。

7.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括至少一个形成于所述像素定义层的槽和/或孔；

所述无机材料层填充于所述槽和/或孔内。

8.一种显示面板，其特征在于，包括显示基板、有机发光单元及封装层；

所述显示基板包括：

阵列基板；

像素定义层，形成于所述阵列基板，且界定出多个子像素区域；

无机材料层，结合于所述像素定义层背离所述阵列基板一侧；及

阴极，位于所述有机发光单元背离所述阵列基板的一侧；

所述像素定义层形成有多个像素定义开口以界定出多个子像素区域，所述有机发光单元形成于所述子像素区域，所述封装层形成于所述有机发光单元背离所述阵列基板的一侧；

其中，所述像素定义层为有机材料层，每一所述像素定义开口具有底部及侧壁，所述无机材料层覆盖所述像素定义层除所述像素定义开口的底部外的区域；

所述阴极覆盖所述无机材料层和所述有机发光单元。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求8所述的显示面板。

10.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一阵列基板；

在所述阵列基板上形成像素定义层；所述像素定义层为有机材料层且界定出多个像素定义开口，每一所述像素定义开口具有底部及侧壁；

在所述像素定义层背离所述阵列基板一侧形成结合于所述像素定义层的无机材料层；所述无机材料层覆盖所述像素定义层除所述像素定义开口的底部外的区域；

在所述有机发光单元背离所述阵列基板一侧形成阴极；所述阴极覆盖所述无机材料层和所述有机发光单元。