[发明专利]电致变色结构及其制作方法、电子设备

权利要求书

1.一种电致变色结构的制作方法，其特征在于，包括：

在第一衬底的一侧形成第一导电层；

形成第一电致变色功能层，所述第一电致变色功能层形成在所述第一导电层远离所述第一衬底的一侧；

在所述第一电致变色功能层远离所述第一导电层的一侧上设置界定结构，所述界定结构在所述第一电致变色功能层上限定出预定区域，在所述预定区域中形成电解质层；

在第二衬底的一侧形成第二导电层；

形成第二电致变色功能层，所述第二电致变色功能层形成在所述第二导电层远离所述第二衬底的一侧；

将所述第一衬底以及所述第二衬底进行贴合，所述电解质层与所述第二电致变色功能层相接触，以便形成所述电致变色结构，

所述界定结构仅覆盖所述第一电致变色功能层上非预定区域的一部分，

其中，所述预定区域在所述第一衬底上的正投影位于所述第一衬底的中心区域内，所述非预定区域在所述第一衬底上的正投影位于所述第一衬底的边缘区域内。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一电致变色功能层为电致变色层，所述第二电致变色功能层为离子储存层；或者，所述第一电致变色功能层为离子储存层，所述第二电致变色功能层为电致变色层。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述电解质层进一步包括：在设置所述电解质层之前，在所述第一电致变色功能层上设置掩膜，以覆盖所述非预定区域中暴露在外的部分。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述第二电致变色功能层包括：

在所述第二电致变色功能层与所述电解质层相接触一侧的表面，且与所述非预定区域中暴露在外的部分相对应的位置形成凸起，所述凸起的高度与所述界定结构的高度相符。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述界定结构是由绝缘胶形成的。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在贴合所述第一衬底以及所述第二衬底之后，形成所述电致变色结构之前，进一步包括：形成图案保护层，形成所述图案保护层是通过以下步骤实现的：

在第三衬底的一侧形成图案层；

将形成有所述图案层的所述第三衬底胶黏在所述第一衬底远离所述第一导电层的一侧，所述图案层与所述第一衬底相接触，或者，将形成有所述图案层的所述第三衬底胶黏在所述第二衬底远离所述第二导电层的一侧，所述图案层与所述第二衬底相接触。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第三衬底是由透明材料形成的。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，与所述图案层相接触的所述第一衬底或所述第二衬底是由透明材料形成的。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，与所述图案层相接触的所述第一衬底或所述第二衬底是由薄片玻璃或聚酰亚胺形成的。

10.一种电致变色结构，其特征在于，包括：

第一衬底；

第一导电层，所述第一导电层设置在所述第一衬底的一侧；

第一电致变色功能层，所述第一电致变色功能层设置在所述第一导电层远离所述第一衬底的一侧；

电解质层，所述电解质层设置在所述第一电致变色功能层远离所述第一导电层的一侧，并覆盖所述第一电致变色功能层被界定结构限定出的预定区域；

第二电致变色功能层，所述第二电致变色功能层设置在所述电解质层远离所述第一电致变色功能层的一侧；

第二导电层，所述第二导电层设置在所述第二电致变色功能层远离所述电解质层的一侧；

第二衬底，所述第二衬底设置在所述第二导电层远离所述第二电致变色功能层的一侧；

其中，

所述第一电致变色功能层的非预定区域，被所述界定结构以及所述第二电致变色功能层覆盖，

所述预定区域在所述第一衬底上的正投影位于所述第一衬底的中心区域内，所述非预定区域在所述第一衬底上的正投影位于所述第一衬底的边缘区域内。