[发明专利]抛光垫及研磨设备在审
申请号: | 201810738877.9 | 申请日: | 2018-07-06 |
公开(公告)号: | CN108655948A | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
发明(设计)人: | 朱顺全;吴晓茜;张季平;车丽媛 | 申请(专利权)人: | 湖北鼎龙控股股份有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司 |
主分类号: | B24B37/26 | 分类号: | B24B37/26 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 张凯 |
地址: | 430057 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圈形槽 抛光液 线形沟槽 研磨 抛光垫 穿过 垫片本体 内圈 相通 抛光过程 研磨设备 中心距离 驻留 线形槽 研磨面 中心处 抛光 导出 排出 | ||
1.一种抛光垫,其特征在于,包括:
垫片本体,具有研磨面;
至少两个相互套设的圈形槽,设置在所述研磨面上;以及
至少一条线形沟槽,设置在所述研磨面上,穿过每个所述圈形槽且与被穿过的所述圈形槽相通,
其中,所述线形沟槽的深度是变化的,深度随着距离最内圈的圈形槽的中心距离的增加而增加。
2.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于:
其中,所述线形沟槽的宽度为0.3-0.7mm,
所述圈形槽彼此之间的间距为0.2-1.0mm,
所述线形沟槽的最深处的深度与最浅处的深度差值为0.2至0.8mm,
所述线形沟槽的深度是随着距离最内圈的圈形槽的中心处距离的增加而线性增加或阶梯式增加或是线性和阶梯式复合增加的。
3.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于:
其中,所述线形沟槽呈直线、折线或是曲线延伸,
所述线形沟槽的截面为V形,该V形截面为等腰三角形,顶角为160°至170°。
4.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,还包括:
开关单元,包括至少一个开关,
每个所述开关安装在所述线形沟槽上,用于控制所述线形沟槽作为物料流通的通道的打开或封堵状态。
5.根据权利要求4所述的抛光垫,其特征在于:
其中,所述开关为活动块,该活动块通过滑动、按压或者翻转的方式来堵塞或是开启所述线形沟槽的流动通道。
6.根据权利要求4所述的抛光垫,其特征在于:
其中,所述开关包括设置在所述线形沟槽的外端的开关座以及安装在该开关座上的活动块,
所述开关座具有供所述活动块插入固定来堵塞所述线形沟槽的流动通道的开关槽。
7.根据权利要求6所述的抛光垫,其特征在于:
其中,所述开关座的底面设置有滑槽,该滑槽用于卡合在所述垫片本体的边沿上而能够自由滑动。
8.根据权利要求4所述的抛光垫,其特征在于:
其中,所述开关包括圆形圈和突起块,
所述圆形圈作为开关座,
所述突起块设置在圆形圈的内壁面上,作为活动块其尺寸、形状与所述线形沟槽相匹配,
通过将所述圆形圈套着所述垫片本体上使得所述活动块堵住所述线形沟槽。
9.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于:
其中,所述垫片本体为圆饼状,所述圈形槽为圆形,
所述圈形槽彼此是同中心地设置的,
所述线形槽是以所述圈形槽的中心为中心,呈均匀放射状设置的,
所述线形沟槽的外端具有保持深度最大值的平坦区,该平坦区靠近所述圈形槽的中心的一端到所述圈形槽的中心的距离为所述垫片本体的半径的0.90倍至0.98倍。
10.一种研磨设备,具有与被研磨工件接触的抛光垫,其特征在于:
其中,所述抛光垫为权利要求1-9中任意一项所述的抛光垫。
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