[发明专利]膜厚度测量方法及膜厚度测量装置

权利要求书

1.一种膜厚度测量方法，其特征在于包括：

将待测量的挥发性透光膜布置在基板上，并且用来自光源的光照射所述透光膜直到所述透光膜的蒸发结束为止；

由光接收元件在规则反射方向上接收所述透光膜的反射光，获取作为所述反射光的信号强度的时序信号的反射光强度信号直到所述透光膜的蒸发结束为止，所述反射光强度信号指示所述信号强度的变化，并且将所获取的反射光强度信号保存到存储装置中；

基于所述光源的分光强度、所述光接收元件的分光灵敏度以及所述透光膜的光学常数来估计通过用来自所述光源的光照射所述透光膜而获得的所述反射光的信号强度，并且获取指示随着所述透光膜的膜厚度变化所述反射光的信号强度的估计值的变化的估计信号；

基于从作为所述透光膜的蒸发结束的时间点的基点到期望时间点所述反射光强度信号的信号波形中的峰的数目来指定所述期望时间点存在的时间范围；

使所述估计信号的信号波形与所述反射光强度信号的信号波形彼此协调，使得所述估计信号的信号波形中的当所述膜厚度等于零时的时间点与所述反射光强度信号的信号波形中的所述基点彼此一致，并且基于所述估计信号的信号波形中的峰的数目来指定所述估计信号的信号波形中的与所述时间范围对应的膜厚度范围；以及

获取所述反射光在所述期望时间点处的信号强度，并且将对应于与落入所述膜厚度范围内的膜厚度对应并且与所述反射光在所述期望时间点处的信号强度一致的所述反射光的信号强度的估计值的膜厚度设置为所述透光膜在所述期望时间点处的膜厚度。

2.根据权利要求1所述的膜厚度测量方法，其特征在于，

提供多个光接收元件以构成二维区域传感器。

3.根据权利要求2所述的膜厚度测量方法，其特征在于，

所述光源是对作为所述透光膜的二维区域的整个测量区进行照射的表面照明器。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的膜厚度测量方法，其特征在于，

当所述基板的表面不是平坦表面时，根据所述基板的表面的形状来对所获得的膜厚度进行校正。

5.一种膜厚度测量装置，其特征在于包括：

光源，被布置在基板上，并且被配置成用光照射待测量的挥发性透光膜直到所述透光膜的蒸发结束为止；

光接收元件，被配置成在规则反射方向上接收所述透光膜的反射光；

存储装置，被配置成存储作为从所述光接收元件输出的所述反射光的信号强度的时序信号的反射光强度信号直到所述透光膜的蒸发结束为止，所述反射光强度信号指示所述信号强度的变化；

估计信号获取单元，被配置成基于所述光源的分光强度、所述光接收元件的分光灵敏度以及所述透光膜的光学常数来估计通过用来自所述光源的光照射所述透光膜而获得的所述反射光的信号强度，并且获取指示随着所述透光膜的膜厚度变化所述反射光的信号强度的估计值的变化的估计信号；

时间范围指定单元，被配置成基于从作为所述透光膜的蒸发结束的时间点的基点到期望时间点所述反射光强度信号的信号波形中的峰的数目来指定所述期望时间点存在的时间范围；

膜厚度范围指定单元，被配置成使所述估计信号的信号波形与所述反射光强度信号的信号波形彼此协调，使得所述估计信号的信号波形中的当所述膜厚度等于零时的时间点与所述反射光强度信号的信号波形中的所述基点彼此一致，并且基于所述估计信号的信号波形中的峰的数目来指定所述估计信号的信号波形中的与所述时间范围对应的膜厚度范围；以及

膜厚度设置单元，被配置成将对应于与落入所述膜厚度范围内的膜厚度对应并且与所述反射光在所述期望时间点处的信号强度一致的所述反射光的信号强度的估计值的膜厚度设置为所述透光膜在所述期望时间点处的膜厚度。