[发明专利]一种ESD保护电路及电子装置在审

专利信息
申请号: 201810756628.2 申请日: 2018-07-11
公开(公告)号: CN108598078A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 何永强;程剑涛;郭辉;张艳萍 申请(专利权)人: 上海艾为电子技术股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 200233 上海市徐汇*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高压二极管 寄生电容 静电 供电端 接地端 正向 低压二极管 电子装置 供电电源 双向导通 负向 耐高压性能 耐高压 串联 带宽
【权利要求书】:

1.一种ESD保护电路,连接于供电电源与被保护电路之间,其特征在于,所述ESD保护电路包括:

高压二极管和双向导通模块,所述双向导通模块包括第一正向低压二极管和第一反向低压二极管;

所述第一正向低压二极管的阳极与所述第一反向低压二极管的阴极均连接至所述供电电源的供电端,所述第一正向低压二极管的阴极与所述第一反向低压二极管的阳极均连接至所述高压二极管的阴极,所述高压二极管的阳极连接至所述供电电源的接地端;

其中,所述第一正向低压二极管和所述第一反向低压二极管的反向击穿电压均小于所述高压二极管的反向击穿电压,且所述双向导通模块的寄生电容小于所述高压二极管形成的寄生电容。

2.根据权利要求1所述的ESD保护电路,其特征在于,所述第一正向低压二极管和所述第一反向低压二极管的相连结构包括:

衬底;

位于所述衬底上的N型埋层;

位于所述N型埋层上的第一P型注入层和第二P型注入层;

位于所述第一P型注入层上的第一N阱和位于所述第二P型注入层上的第二N阱;

以及,位于所述第一N阱上的第一P+注入层和位于所述第二N阱上的第二P+注入层;

其中,所述第一P+注入层与所述第二N阱相连且连接至所述供电端,所述第一N阱、所述第一P型注入层、所述第二P+注入层、所述第二P型注入层与所述N型埋层相连且连接至所述高压二极管的阴极。

3.根据权利要求1所述的ESD保护电路,其特征在于,所述第一正向低压二极管和所述第一反向低压二极管相同。

4.根据权利要求1所述的ESD保护电路,其特征在于,所述双向导通模块还包括:

第二正向低压二极管至第N正向低压二极管,N为不小于2的整数,所述第二正向低压二极管至所述第N正向低压二极管的反向击穿电压均小于所述高压二极管的反向击穿电压;

所述第二正向低压二极管至所述第N正向低压二极管中每一正向低压二极管,均与所述第一正向低压二极管同向串联于所述供电端和所述高压二极管的阴极之间。

5.根据权利要求1所述的ESD保护电路,其特征在于,所述双向导通模块还包括:

第二正向低压二极管至第N正向低压二极管,N为不小于2的整数,所述第二正向低压二极管至所述第N正向低压二极管的反向击穿电压均小于所述高压二极管的反向击穿电压;

所述第二正向低压二极管至所述第N正向低压二极管中每一正向低压二极管,均与所述第一正向低压二极管同向并联于所述供电端和所述高压二极管的阴极之间。

6.根据权利要求4或5所述的ESD保护电路,其特征在于,所述第二正向低压二极管至所述第N正向低压二极管中每一正向低压二极管,均与所述第一正向低压二极管相同。

7.根据权利要求1所述的ESD保护电路,其特征在于,所述双向导通模块还包括:

第二反向低压二极管至第M反向低压二极管,M为不小于2的整数,所述第二反向低压二极管至所述第M反向低压二极管的反向击穿电压均小于所述高压二极管的反向击穿电压;

所述第二反向低压二极管至所述第M反向低压二极管中每一反向低压二极管,均所述第一反向低压二极管同向串联于所述供电端和所述高压二极管的阴极之间。

8.根据权利要求1所述的ESD保护电路,其特征在于,所述双向导通模块还包括:

第二反向低压二极管至第M反向低压二极管,M为不小于2的整数,所述第二反向低压二极管至所述第M反向低压二极管的反向击穿电压均小于所述高压二极管的反向击穿电压;

所述第二反向低压二极管至所述第N反向低压二极管中每一反向低压二极管,均与所述第一反向低压二极管同向并联于所述供电端和所述高压二极管的阴极之间。

9.根据权利要求7或8所述的ESD保护电路,其特征在于,所述第二反向低压二极管至所述第M反向低压二极管中每一反向低压二极管,均与所述第一反向低压二极管相同。

10.一种电子装置,其特征在于,所述电子装置包括权利要求1~9任意一项所述的ESD保护电路。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海艾为电子技术股份有限公司,未经上海艾为电子技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810756628.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top