[发明专利]光学成像镜头在审
申请号: | 201810768211.8 | 申请日: | 2018-07-13 |
公开(公告)号: | CN109100853A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 陈锋;赖永枫;唐如优 | 申请(专利权)人: | 玉晶光电(厦门)有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18;G02B13/06;G02B7/02 |
代理公司: | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 | 代理人: | 何建华 |
地址: | 361000 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 光学成像镜头 光圈 凹凸曲面 光学性能 相关参数 视场角 物侧 像侧 镜头 | ||
1.一种光学成像镜头,其从一物侧至一像侧沿一光轴依序包括一第一透镜、一第二透镜、一第三透镜、一第四透镜、一第五透镜及一第六透镜,且该第一透镜至该第六透镜各自包括一朝向该物侧且使成像光线通过的物侧面及一朝向该像侧且使成像光线通过的像侧面,其特征在于:
该第一透镜具有负屈光率并且其该物侧面的一光轴区域为凸面;
该第二透镜的该像侧面的一圆周区域为凹面;
该第三透镜的该物侧面的一圆周区域为凸面;
该第四透镜具有负屈光率;
该第五透镜的该物侧面的一光轴区域为凹面;
该光学成像镜头具有屈光率的透镜只有上述六片,该光学成像镜头更满足(T4+AAG)/T2≦2.700,其中,T4代表该第四透镜在该光轴上的厚度,AAG代表该第一透镜的该像侧面至该第二透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第二透镜的该像侧面至该第三透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第三透镜的该像侧面至该第四透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第四透镜的该像侧面至该第五透镜的该物侧面在该光轴上的距离以及该第五透镜的该像侧面至该第六透镜的该物侧面在该光轴上的距离的总和,T2代表该第二透镜在该光轴上的厚度。
2.一种光学成像镜头,其从一物侧至一像侧沿一光轴依序包括一第一透镜、一第二透镜、一第三透镜、一第四透镜、一第五透镜及一第六透镜,且该第一透镜至该第六透镜各自包括一朝向该物侧且使成像光线通过的物侧面及一朝向该像侧且使成像光线通过的像侧面,其特征在于:
该第一透镜具有负屈光率并且其该物侧面的一光轴区域为凸面;
该第二透镜的该像侧面的一圆周区域为凹面;
该第三透镜的该物侧面的一圆周区域为凸面;
该第四透镜的该物侧面的一光轴区域为凹面;
该第五透镜的该物侧面的一光轴区域为凹面;
该光学成像镜头具有屈光率的透镜只有上述六片,该光学成像镜头更满足(T4+AAG)/T2≦2.700,其中,T4代表该第四透镜在该光轴上的厚度,AAG代表该第一透镜的该像侧面至该第二透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第二透镜的该像侧面至该第三透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第三透镜的该像侧面至该第四透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第四透镜的该像侧面至该第五透镜的该物侧面在该光轴上的距离以及该第五透镜的该像侧面至该第六透镜的该物侧面在该光轴上的距离的总和,T2代表该第二透镜在该光轴上的厚度。
3.一种光学成像镜头,其从一物侧至一像侧沿一光轴依序包括一第一透镜、一第二透镜、一第三透镜、一第四透镜、一第五透镜及一第六透镜,且该第一透镜至该第六透镜各自包括一朝向该物侧且使成像光线通过的物侧面及一朝向该像侧且使成像光线通过的像侧面,其特征在于:
该第一透镜具有负屈光率并且其该物侧面的一光轴区域为凸面;
该第二透镜的该像侧面的一圆周区域为凹面;
该第三透镜的该物侧面的一圆周区域为凸面;
该第四透镜的该物侧面的一圆周区域为凹面;
该第五透镜的该物侧面的一光轴区域为凹面;
该光学成像镜头具有屈光率的透镜只有上述六片,该光学成像镜头更满足(T4+AAG)/T2≦2.700,其中,T4代表该第四透镜在该光轴上的厚度,AAG代表该第一透镜的该像侧面至该第二透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第二透镜的该像侧面至该第三透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第三透镜的该像侧面至该第四透镜的该物侧面在该光轴上的距离、该第四透镜的该像侧面至该第五透镜的该物侧面在该光轴上的距离以及该第五透镜的该像侧面至该第六透镜的该物侧面在该光轴上的距离的总和,T2代表该第二透镜在该光轴上的厚度。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的光学成像镜头,其特征在于:该光学成像镜头更满足V1>V2+V4,V1代表该第一透镜的阿贝数,V2代表该第二透镜的阿贝数,V4代表该第四透镜的阿贝数。
5.根据权利要求1-3任意一项所述的光学成像镜头,其特征在于:该光学成像镜头更满足HFOV/ImgH≧15.000,HFOV代表该光学成像镜头的半视角、ImgH代表该光学成像镜头在一成像面上成像的像高。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于玉晶光电(厦门)有限公司,未经玉晶光电(厦门)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810768211.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。