[发明专利]一种超薄铜箔制备后的处理工艺在审

专利信息
申请号: 201810768903.2 申请日: 2018-07-13
公开(公告)号: CN108930036A 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 殷勇;余超 申请(专利权)人: 铜陵市华创新材料有限公司
主分类号: C23C28/02 分类号: C23C28/02;C23C22/73
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 244000 安徽省铜陵*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 铜箔 粗化层 超薄铜箔 处理工艺 固化处理 制备 处理层 粗糙度 瘤状 毛面 硅烷偶联剂处理 致密 绝缘树脂基板 制备技术领域 镀锌处理 钝化处理 烘干处理 机械紧固 绝缘基板 颗粒间隙 铜箔表面 金属铜 铜颗粒 电镀 沉积 分层 分切 粘结
【权利要求书】:

1.一种超薄铜箔制备后的处理工艺,其特征在于:包括以下步骤:铜箔固化处理→铜箔毛面镀锌处理→铜箔表面钝化处理→涂硅烷偶联剂处理→铜箔烘干处理→铜箔分切处理;

S1、铜箔固化处理:在粗化层的瘤状颗粒间隙中沉积一层致密的金属铜,以增大粗化层与毛箔基体的接触面,以降低粗化层表面的粗糙度;

S2、铜箔毛面镀锌处理:铜箔毛面通过镀锌处理,形成一层阻挡层,以提高铜箔在自然空气中的防氧化能力;

S3、铜箔表面钝化处理:镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬为主体的结构膜层,使铜箔不会因直接与空气接触而氧化变色,以提高铜箔的耐热性,以延长铜箔的储存期限;

S4、涂硅烷偶联剂处理:在防氧化处理后表面喷涂硅烷,以提高铜箔常温下的抗氧化能力,且在高温压板时,硅烷能通过偶联使铜箔和树脂基材结合得更好,以提高剥离强度。

S5、铜箔烘干处理:在不低于100℃下对铜箔进行烘干;

S6、铜箔分切处理:针对不同的需求,对成品铜箔的品质、幅宽、重量要求进行分切分类,并包装好。

2.根据权利要求1所述的一种超薄铜箔制备后的处理工艺,其特征在于:所述铜箔厚度小于12μm。

3.根据权利要求1所述的一种超薄铜箔制备后的处理工艺,其特征在于:所述S3的铜箔表面钝化处理中,镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐和锌盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬锌为主体的结构膜层。

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