[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201810769672.7 申请日: 2018-07-13
公开(公告)号: CN109256377B 公开(公告)日: 2023-10-17
发明(设计)人: 金成禹;金奉秀;金英培;许基宰;高宽协;洪亨善;黄有商 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H10B12/00;H10B63/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 屈玉华
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体器件
【说明书】:

一种半导体器件包括:设置在衬底上的第一存储部分、第一周边电路部分和第二周边电路部分;以及堆叠在第二周边电路部分上的第二存储部分和布线部分,其中第一存储部分包括多个第一存储单元,第一存储单元的每个包括单元晶体管和连接到单元晶体管的电容器,第二存储部分包括多个第二存储单元,第二存储单元的每个包括彼此串联联接的可变电阻元件和选择元件,布线部分包括多个线图案,其中线图案和第二存储单元相对于衬底高于电容器。

技术领域

发明构思涉及半导体器件,更具体地,涉及具有拥有不同操作特性的存储单元的半导体器件。

背景技术

半导体器件可以包括存储器件和逻辑器件。存储器件存储数据。通常,半导体存储器件可以包括易失性存储器件和非易失性存储器件。易失性存储器件,例如动态随机存取存储器(DRAM)和静态随机存取存储器(SRAM),是在没有电力时丢失存储的数据的存储器件。非易失性存储器件,例如可编程只读存储器(PROM)、可擦除可编程只读存储器(EPROM)、电可擦除可编程只读存储器(EEPRM)和闪速存储器件,是在没有电力时不丢失存储的数据的存储器件。

下一代半导体存储器件,例如磁性随机存取存储器(MRAM)和相变随机存取存储器(PRAM),是高性能和低功耗的器件。下一代半导体存储器件包括这样的材料,该材料的电阻取决于施加的电流或电压而不同,并且即使施加的电流或电压被中断该材料的电阻仍被保持。

发明内容

根据本发明构思的一示例性实施方式,一种半导体器件可以包括:设置在衬底上的第一存储部分、第一周边电路部分和第二周边电路部分;以及堆叠在第二周边电路部分上的第二存储部分和布线部分,其中第一存储部分可以包括多个第一存储单元,第一存储单元的每个包括单元晶体管和连接到单元晶体管的电容器,第二存储部分可以包括多个第二存储单元,第二存储单元的每个包括彼此串联联接的可变电阻元件和选择元件,布线部分可以包括多个线图案,其中线图案和第二存储单元相对于衬底高于电容器。

根据本发明构思的一示例性实施方式,一种半导体器件可以包括包含第一器件区域和第二器件区域的衬底、在第一器件区域上的第一存储部分、以及堆叠在第二器件区域上的第二存储部分和布线部分,其中第一存储部分可以包括电容器结构,第二存储部分可以包括布置在衬底上的多个可变电阻元件以及串联联接到对应的可变电阻元件的多个选择元件,布线部分可以包括多个线图案,其中线图案、可变电阻元件和选择元件比电容器结构距离衬底更高。

根据本发明构思的一示例性实施方式,一种半导体器件包括:衬底;沿着第一方向彼此挨着设置的第一存储部分和第一周边电路部分;设置在第一存储部分和第一周边电路部分上的第一布线部分;以及在实质上垂直于第一方向的第二方向上堆叠的第二周边电路部分、第二布线部分和第二存储部分,其中第二存储部分相对于衬底设置在第一存储部分上方。

附图说明

图1是显示根据本发明构思的一示例性实施方式的半导体器件内部的布置的剖视图。

图2是显示根据本发明构思的一示例性实施方式的图1的第一存储部分、第一周边电路部分、第二存储部分和第二周边电路部分的布置的俯视图。

图3是显示根据本发明构思的一示例性实施方式的图1的第一存储部分的存储单元阵列的电路图。

图4是显示根据本发明构思的一示例性实施方式的图1的第二存储部分的存储单元阵列的电路图。

图5是显示根据本发明构思的一示例性实施方式的图1的第二存储部分的单位存储单元的电路图。

图6是显示根据本发明构思的一示例性实施方式的半导体器件的俯视图。

图7是根据本发明构思的一示例性实施方式的沿图6的线I-I'、II-II'和III-III'截取的剖视图。

图8是显示根据本发明构思的一示例性实施方式的图7的部分A的放大图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810769672.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top