[发明专利]足底按摩仪

权利要求书

1.一种足底按摩仪，其特征在于，包括：

固定基座，

座椅组件，所述座椅组件包括座椅支撑柱、椅座、坐垫、坐垫保护套体及硅胶固定边框，所述座椅支撑柱的第一端设置于所述固定基座上，所述椅座与所述座椅支撑柱的第二端相固定，所述椅座具有中空结构，所述椅座内开设有坐垫容置腔体，所述椅座远离所述座椅支撑柱的第二端的侧面上开设有安装口，所述安装口与所述坐垫容置腔体连通，所述坐垫置于所述坐垫容置腔体内，所述坐垫保护套体与所述坐垫抵持，所述硅胶固定边框的外边缘与所述安装口的内侧壁相固定，所述硅胶固定边框的内边缘与所述坐垫保护套体的外边缘相固定；及

足底按摩组件，所述足底按摩组件包括壳体、按摩基板及多个滚轮组，所述壳体设置于所述固定基座上，所述壳体具有中空结构，所述壳体内开设有热水容置腔体，所述热水容置腔体的底部开设有按摩仪安装槽，所述按摩基板嵌置于所述按摩仪安装槽内，所述按摩基板上开设有多个滚轮槽，各所述滚轮组一一对应设置于各所述滚轮槽内。

2.根据权利要求1所述的足底按摩仪，其特征在于，所述固定基座具有长方体结构。

3.根据权利要求1所述的足底按摩仪，其特征在于，所述座椅支撑柱与所述壳体之间设置有间隔。

4.根据权利要求3所述的足底按摩仪，其特征在于，所述固定基座于所述间隔位置处设置有脚掌安放区。

5.根据权利要求4所述的足底按摩仪，其特征在于，所述足底按摩仪还包括脚垫，所述脚垫设置于所述脚掌安放区上。

6.根据权利要求1所述的足底按摩仪，其特征在于，所述座椅支撑柱具有长方体结构。

7.根据权利要求1所述的足底按摩仪，其特征在于，所述按摩基板具有长方体结构。

8.根据权利要求1所述的足底按摩仪，其特征在于，所述滚轮槽具有“凹”字形的横截面。

9.根据权利要求8所述的足底按摩仪，其特征在于，各所述滚轮槽之间设置有间隔。

10.根据权利要求1所述的足底按摩仪，其特征在于，所述滚轮组包括多个按摩滚轮，每相邻两个按摩滚轮之间距离相等。