[发明专利]一种马赫-曾德尔干涉仪及其制作设备和制作方法

权利要求书

1.一种马赫-曾德尔干涉仪，其特征在于，所述马赫-曾德尔干涉仪为具有中部束腰的纤芯调制的双锥形微纳啁啾长周期光纤光栅，所述马赫-曾德尔干涉仪通过光纤布拉格光栅拉锥成型；

所述双锥形微纳啁啾长周期光纤光栅包括设于中间的空白光纤和对称连接于所述空白光纤两端的微纳啁啾长周期光纤光栅，所述微纳啁啾长周期光纤光栅为直径由远离所述空白光纤的方向逐渐增大的锥形。

2.根据权利要求1所述的马赫-曾德尔干涉仪，其特征在于，所述微纳啁啾长周期光纤光栅的直径的范围为纳米量级到微米量级；所述微纳啁啾长周期光纤光栅的光纤纤芯内部的光栅周期呈非均匀分布，所述光栅周期由远离空白光纤方向逐渐减小；所述微纳啁啾长周期光纤光栅的光纤纤芯内部的折射率呈现非均匀分布，所述折射率由远离空白光纤方向逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的马赫-曾德尔干涉仪，其特征在于，所述光纤布拉格光栅拉锥的条件为：环境温度在22-28℃范围内，氢氧火焰拉锥机的氢气流量为108.0-111.0SCCM，氧气流量为7.0-10.0SCCM，火焰扫描宽度为1-5mm，扫描速度为0.05-0.1mm/s。

4.一种马赫-曾德尔干涉仪的制作设备，其特征在于，包括：

光源，用于产生宽带光源并输入至被拉伸光纤；

拉伸移动台，用于固定所述被拉伸光纤，和完成拉伸光纤的移动动作；

氢氧火焰拉锥机，用于对所述被拉伸光纤喷射火焰，熔融所述被拉伸光纤；

光谱分析仪，用于检测所述被拉伸光纤中的光谱；

所述被拉伸光纤为光纤布拉格光栅，拉伸后为具有中部束腰的双锥形微纳啁啾长周期光纤光栅；

所述双锥形微纳啁啾长周期光纤光栅包括设于中间的空白光纤和对称连接于所述空白光纤两端的微纳啁啾长周期光纤光栅，所述微纳啁啾长周期光纤光栅为直径由远离所述空白光纤的方向逐渐增大的锥形。

5.根据权利要求4所述的马赫-曾德尔干涉仪的制作设备，其特征在于，所述氢氧火焰拉锥机在拉锥时的条件为：环境温度在22-28℃范围内，氢氧火焰拉锥机的氢气流量为108.0-111.0SCCM，氧气流量为7.0-10.0SCCM，火焰扫描宽度为1-5mm，扫描速度为0.05-0.1mm/s。

6.一种马赫-曾德尔干涉仪的制作方法，其特征在于，利用权利要求5所述的马赫-曾德尔干涉仪的制作设备进行制作，所述方法包括：

截取设定长度的光纤布拉格光栅；

去除光纤布拉格光栅的表面涂覆层；

将去除涂覆层的光纤布拉格光栅两端分别固定于拉伸移动台的两个工作台上；

将宽带光源接入光纤布拉格光栅的一端，光谱分析仪接入光纤布拉格光栅的另一端；

设定氢氧火焰拉锥机的熔融参数，并喷射向光纤布拉格光栅；

喷射的同时向两边移动拉伸移动台的两个工作台，再进行高温退火，使光纤布拉格光栅被拉锥成型为具有中部束腰的双锥形微纳啁啾长周期光纤光栅，得到马赫-曾德尔干涉仪；

所述双锥形微纳啁啾长周期光纤光栅包括设于中间的空白光纤和对称连接于所述空白光纤两端的微纳啁啾长周期光纤光栅，所述微纳啁啾长周期光纤光栅为直径由远离所述空白光纤的方向逐渐增大的锥形。

7.根据权利要求6所述的马赫-曾德尔干涉仪的制作方法，其特征在于，所述马赫-曾德尔干涉仪的锥区长度为6.78mm-12.88mm，与所述锥区长度对应的所述中部束腰的直径的范围为纳米量级到十微米量级。

8.根据权利要求6所述的马赫-曾德尔干涉仪的制作方法，其特征在于，所述熔融参数为环境温度在22-28℃范围内，氢氧火焰拉锥机的氢气流量为108.0-111.0SCCM，氧气流量为7.0-10.0SCCM，火焰扫描宽度为1-5mm，扫描速度为0.05-0.1mm/s。