[发明专利]显示基板及其制造方法和显示装置

说明书

本发明公开了一种显示基板，包括：衬底基板、在衬底基板上由第一金属层图案化形成的阳极、位于第一金属层上的像素定义层、铺设在像素定义层上的疏水性材料层；像素定义层上设有多个通孔，通孔底部为阳极，疏水性材料层在通孔底部的对应位置设有开口；像素定义层和疏水性材料层构成堤坝，堤坝围拢形成凹槽，堤坝上表面和凹槽内壁均为疏水性表面；本发明的显示基板采用了常用的亲水性材料制造像素定义层，无需开发新的疏水性材料，通过活性硅烷对亲水性材料层进行处理使其转变为疏水性材料层，达到堤坝上表面和凹槽内壁均为疏水性表面的效果，开发成本和制造成本均较低；本发明还公开了显示基板的制造方法和显示装置。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置。

背景技术

目前市面上成熟的显示技术为LCD(液晶显示器)技术，而OLED(有机电致发光显示器)、QLED(量子点电致发光显示器)等新型显示技术以自发光所带来的高对比度、高色域、宽视角、低能耗、低反应时间以及其更轻薄的优势被大家所关注。

市面上量产的OLED显示器以小尺寸为主，大尺寸数量较少，限制大尺寸OLED显示器的主要因素为OLED器件的制备。目前已量产的OLED显示器件均使用蒸镀的方式来制备OLED器件，而如图1所示，蒸镀方式由于蒸镀掩膜版02的使用无法制作高PPI(每英寸像素数)显示器，且在大尺寸显示器制作过程中，蒸镀掩膜版02过大会出现弯曲现象，影响蒸镀效果造成混色。

喷墨打印(IJP，Ink-jet Print)技术是解决此问题的有效途径，其无需使用掩膜版，由软件控制精确打印出设计图案。且对于QLED显示器蒸镀的温度会影响量子点特性，故无法使用蒸镀的方式进行制作QLED器件，喷墨打印技术同样是最适用于QLED器件的制备方式；

如图2所示，喷墨打印技术通过软件精确控制喷嘴03，喷出墨水落在指定位置，烘烤成膜后形成预设图案。故需要设计堤坝041(Bank)对各子像素区域进行隔离，而堤坝041的材料要求疏水，保证滴落的墨水均在堤坝041围成的凹槽042内。目前OLED显示器使用的像素定义层均为亲水性材料，无法直接构成喷墨打印制程的OLED或者QLED显示器所需的堤坝041。

各大材料厂商均在开发疏水性堤坝材料，但既要满足疏水要求，又要满足OLED、QLED显示需要的低逸气率(Outgas)等特性，比较困难，目前市面上无量产的疏水性堤坝材料。如图3～图6所示，目前有厂商使用亲水性堤坝材料051，在其中掺杂疏水小分子052，在涂布完成预烘烤时，疏水小分子052扩散到表面，形成疏水层053，后进行曝光显影，以形成堤坝上表面043疏水的堤坝041。但堤坝围拢形成的凹槽内壁044为亲水性表面，滴落的墨水落在斜边时无法滑下，影响成膜效果。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明公开了一种显示基板，显示基板中堤坝上表面和凹槽内壁均为疏水性表面，优化了喷墨打印的成膜效果。

本发明提供的技术方案如下：

本发明公开了一种显示基板，包括：

衬底基板；

位于衬底基板上的阳极；

位于阳极上的像素定义层，所述像素定义层上设有多个通孔，通孔连接所述阳极；

位于所述像素定义层上的疏水性材料层，所述疏水性材料层在通孔底部的对应位置设有开口；

所述像素定义层和疏水性材料层构成堤坝，所述堤坝围拢形成凹槽，堤坝上表面和凹槽内壁均为疏水性表面。

优选地，所述疏水性材料层包括二氧化硅，所述二氧化硅经活性硅烷处理后具有疏水性。

优选地，所述活性硅烷包括氯硅烷或六甲基二硅胺烷。

优选地，所述像素定义层的上表面和所述通孔内壁为亲水性表面。