[发明专利]空穴传输层、其制备方法及半导体光电器件有效
申请号: | 201810787349.2 | 申请日: | 2018-07-17 |
公开(公告)号: | CN108899433B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 陈雨 | 申请(专利权)人: | 嘉兴纳鼎光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 叶蕙;王锋 |
地址: | 314000 浙江省嘉兴市海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 空穴 传输 制备 方法 半导体 光电 器件 | ||
本发明公开了一种空穴传输层,所述空穴传输层的材质包括P型半导体材料,所述p型半导体材料为掺杂低价态金属元素的钙钛矿材料,所述低价态金属元素的价态为+1价。所述空穴传输层的制备方法包括:将M1X2、M2X及有机溶剂混合反应得到混合反应液;形成薄膜层;一次退火处理;薄膜层置入含AX的有机溶液,经清洗、二次退火处理,形成空穴传输层。本发明还公开了一种半导体光电器件,所述半导体光电器件包括空穴传输层。本发明另公开了一种半导体光电器件的制备方法,包括制备空穴传输层的步骤,并公开一种量子点发光二极管器件的制作方法,包括制备第一电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层及第二电极的步骤。
技术领域
本发明涉及有机电致发光器件技术领域,具体的涉及一种空穴传输层及其制备方法、半导体光电器件及其制备方法,以及量子点发光二极管器件的制作方法。
背景技术
基于半导体量子点(QDs)发光的量子点发光二极管器件(QLEDs)具有发光效率高、色纯度高以及发光颜色简单可调等优点。近年来,对量子点材料及QLED器件的开发受到了越来越多的关注。与有机发光二极管器件相比较,QLED器件中的发光层由无机纳米粒子组成,目前主流的QLED器件中通常采用的是有机的空穴注入层、有机的空穴传输层、无机的量子点发光层、无机的电子传输层。但使用有机材料作为空穴传输层在光照射下,通常不稳定,因此会导致,QLED器件参数下降,寿命降低,延迟了QLED商业化应用的时间。另外,在传统量子点主动发光二极管中,空穴传输层所采用的材料为有机小分子或者聚合物之类,此种物质不稳定,且一种物质的LUMO和HOMO是固定的,不可调整。
因此,如何提高空穴传输层的稳定性、有效调节空穴传输层的LUMO和HOMO、提高QLED的制作效率,成为了亟待解决的问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种空穴传输层及其制备方法、半导体光电器件及其制备方法,以及量子点发光二极管器件的制作方法,以克服现有技术中的不足。为实现前述发明目的,本发明采用的技术方案包括:
本发明实施例提供了一种空穴传输层,所述空穴传输层的材质包括P型半导体材料,所述P型半导体材料为掺杂低价态金属元素的钙钛矿材料,所述低价态金属元素的价态为+1价。
本发明实施例还提供一种空穴传输层的制备方法,包括以下步骤:
(1)将M1X2、M2X及有机溶剂混合后加热至40℃~80℃,反应得到混合反应液;
(2)对步骤(1)所获混合反应液进行成膜处理,形成薄膜层;以及
(3)对步骤(2)所获薄膜层进行一次退火处理;
(4)将经步骤(3)处理后的薄膜层置入包含AX的有机溶液,再经清洗、二次退火处理,形成空穴传输层;
其中,M1包括Pb、Sn和Ge中的任意一种或两种以上的组合;
M2为低价态金属元素,包括Cu+、Na+、Ag+、Rb+、Li+、K+和La+中的任意一种或两种以上的组合;
A包括Cs、CH3NH3、HC(NH2)2和Rb中的任意一种或两种以上的组合;
X包括Cl、Br和I中的任意一种或两种以上的组合。
本发明实施例还提供一种半导体光电器件,所述半导体光电器件包括空穴传输层,所述空穴传输层为上述的空穴传输层。
本发明实施例还提供一种半导体光电器件的制备方法,包括制备空穴传输层的步骤,其采用上述的方法制备所述的空穴传输层。
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