[发明专利]一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料及其制备

权利要求书

1.一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，该复合材料包括100份的光敏树脂和1~100份纳米填料。

2.根据权利要求1所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述光敏树脂的制备原料包括：环氧树脂、环氧活性稀释剂、环氧丙烯酸酯、丙烯酸酯类活性稀释剂、阳离子光引发剂、自由基型光引发剂。

3.根据权利要求1所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述光敏树脂的制备原料包括：环氧树脂30-50份，环氧活性稀释剂10-25份，环氧丙烯酸酯5-20份、丙烯酸酯类活性稀释剂10-20份、阳离子光引发剂1-10份、自由基型光引发剂1-10份。

4.根据权利要求2-3任一项所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述环氧树脂包括3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己基羧酸酯、双（（3,4-环氧环己基）甲基）己二酸酯、二环戊二烯环氧化物、3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯、3,4-环氧环己基甲基丙烯酸酯中的至少一种。

5.根据权利要求2-3任一项所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述环氧活性稀释剂包括三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、3-乙基-3-环氧丙烷甲醇、1,4-丁二醇二缩水甘油醚、四氢邻苯二甲酸二缩水甘油酯、六氢邻苯二甲酸二缩水甘油酯、对-（2,3-环氧丙氧基）-N,N-二（2,3-环氧丙基）苯胺、N,N,N',N'-四环氧丙基-4,4'-二氨基二苯甲烷中的至少一种。

6.根据权利要求2-3任一项所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述环氧丙烯酸酯为双酚A型环氧丙烯酸酯或乙氧化双酚A型环氧丙烯酸酯。

7.根据权利要求2-3任一项所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述丙烯酸酯类活性稀释剂包括二丙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述纳米填料的平均粒径为10nm~0.1μm。

9.根据权利要求1或8所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述纳米填料为无机纳米颗粒经过表面改性剂改性而得。

10.根据权利要求9所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述无机纳米颗粒为氧化铝、氮化铝、碳化硅、二氧化钛、碳纳米管、气相生长碳纤维、凹凸棒石、蒙脱土、石墨烯纳米片、氧化石墨、氧化锌、二氧化硅中的至少一种。

11.根据权利要求9所述的一种耐超低温3D打印用光敏树脂纳米复合材料，其特征在于，所述表面改性剂为羟丙烯纤维素、异丙基三（二辛基焦磷酸酰氧基）钛酸酯、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三（β-甲氧基乙氧基）硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、γ-（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷中的至少一种。