[发明专利]一种5XXX铝及铝合金表面高耐蚀单致密微弧氧化膜层的制备方法

权利要求书

1.一种5XXX铝及铝合金表面高耐蚀单致密微弧氧化膜层的制备方法，其特征在于，它包括下列步骤：

A.在低压阶段进行铝及铝合金致密钝化膜层的制备；

B.在单脉冲高压阶段在含络合剂电解液体系中制备高压三氧化二铝膜层；

C.在双向脉冲模式下在含燃烧剂络合体系中进行三氧化二铝/尖晶石单致密膜层的烧结；

所述步骤A的具体过程如下：

将5XXX铝或铝合金经过打磨、抛光、除油等预处理后，在钝化液中进行直流钝化，该钝化液的成分为：

主盐：氢氧化钠，20～50g/L；

添加剂：硅酸钠，5～10g/L；

稳定剂：氟化钠，2～5g/L；

余量为水；

致密钝化膜层的制备过程中，钝化液温度为20～50℃，电源模式为直流阳极氧化，氧化电压范围为0～300V，氧化时间为5～10分钟，电流密度0.5～5A/dm²，获得的氧化膜厚度为2～5um；

所述步骤B的具体过程如下：

在含络合剂电解液体系中进行，该含络合剂电解液体系的成分为：

主盐：硅酸钠或者硅酸钾，10～80g/L；

pH调节剂：氢氧化钠或者氢氧化钾，1～10g/L；和氢氟酸或酒石酸或硼酸，1～10ml/L；

稳定剂：乙二胺四乙酸二钾或者乙二胺四乙酸二钠，和氟化钾或者氟化钠，1～10g/L；

添加剂：草酸钾或者草酸钠，和醋酸钾或者醋酸钠，5～30g/L；

余量为水；

在高压三氧化二铝膜层的制备过程中，电解液温度20～50℃，电源模式为单脉冲，氧化终电压为350～550V，氧化时间为5～60分钟，电流密度1～3A/dm²，频率为100～1000Hz，占空比为10％～90％，获得的氧化膜厚度为5～20um；

所述步骤C的具体过程如下：

在含燃烧剂络合体系中进行，该含燃烧剂络合体系的成分为：

主盐：草酸钠，20～50g/L；

pH调节剂：氢氟酸、硼酸或酒石酸，5～20ml/L；

稳定剂：乙二胺四乙酸二钾或者乙二胺四乙酸二钾钠，和氟化钾或者氟化钠，0.5～3g/L；

添加剂：磷酸盐，和硅酸钾或者硅酸钠，1～5g/L；

燃烧剂：硬脂酸钠，0.5g～3g/L；

余量为水；

三氧化二铝/尖晶石单致密膜层制备过程中，电解液温度20～50℃，电源模式为双脉冲，氧化时间为60～240分钟，正向终电压为400～650V，负向终电压为50～300V，电流密度5～20A/dm²，频率为500～1000Hz，正向脉冲占空比为10～70％、负向脉冲占空比为50％～10％，获得的氧化膜厚度为30～100um；

经过烘干后，在5XXX铝及铝合金表面制备高耐蚀单致密微弧氧化膜层。

2.根据权利要求1所述的5XXX铝及铝合金表面高耐蚀单致密微弧氧化膜层的制备方法，其特征在于：所述磷酸盐为正磷酸钾、正磷酸钾钠、磷酸二氢钾、磷酸二氢钠、磷酸一氢钾、磷酸一氢钠、三聚磷酸钾或三聚磷酸钠。